[发明专利]处理装置有效

专利信息
申请号: 201180033847.4 申请日: 2011-07-11
公开(公告)号: CN103003899A 公开(公告)日: 2013-03-27
发明(设计)人: 国吉太;中山昭二 申请(专利权)人: 日立金属株式会社
主分类号: H01F41/02 分类号: H01F41/02;B22F3/24;C21D6/00;C22C38/00;F27B7/16;F27B7/22;F27B7/33;H01F1/053;H01F1/08
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本,*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种处理装置,其特征在于,具备:

扩散处理部,一边加热包含重稀土元素RH的金属或合金的RH扩散源和R-T-B类烧结磁石体,一边进行旋转,所述重稀土元素RH包含Dy和Tb中的至少一种;

分离部,与所述扩散处理部邻接,用于从由所述扩散处理部送出的所述RH扩散源和所述R-T-B类烧结磁石体中选择性地分离所述RH扩散源而进行旋转;和

倾斜单元,使所述扩散处理部和所述分离部倾斜。

2.如权利要求1所述的处理装置,其特征在于:

所述分离部具有将所述RH扩散源向分离部外侧排出的多个开口部,所述开口部的大小比R-T-B类烧结磁石体小。

3.如权利要求1或2所述的处理装置,其特征在于:

所述分离部一边旋转,一边将所述R-T-B类烧结磁石体向所述扩散处理部送出,

所述扩散处理部进行对于从所述分离部移动而来的所述R-T-B类烧结磁石体的热处理。

4.如权利要求1~3中任一项所述的处理装置,其特征在于:

所述扩散处理部具有收容第一内壁部的第一外壁部,

所述分离部具有收容第二内壁部的第二外壁部,

至少所述第一内壁部为圆筒形,包含选自Mo、W、Nb、Ta中的至少1种金属或合金。

5.如权利要求4所述的处理装置,其特征在于:

在所述第一内壁部和所述第一外壁部之间或所述第二内壁部和所述第二外壁部之间配置有片状的缓冲部件。

6.如权利要求1~4中任一项所述的处理装置,其特征在于:

在所述扩散处理部的内壁部设有螺旋状的挡板,

所述扩散处理部的挡板在第一方向上旋转时,将所述扩散处理部内的所述RH扩散源和所述R-T-B类烧结磁石体向所述分离部送出,并且,在与所述第一方向相反的第二方向上旋转时,将所述扩散处理部内的所述RH扩散源和所述R-T-B类烧结磁石体保持在所述扩散处理部内。

7.一种处理装置,其特征在于,具备:

扩散处理部,一边加热包含重稀土元素RH的金属或合金的RH扩散源和R-T-B类烧结磁石体,一边进行旋转,所述重稀土元素RH包含Dy和Tb中的至少一种;

分离部,与所述扩散处理部邻接,用于从由所述扩散处理部送出的所述RH扩散源和所述R-T-B类烧结磁石体中选择性地分离所述RH扩散源而进行旋转;

热处理部,与所述分离部邻接,对于在所述扩散处理部扩散有重稀土元素RH的所述R-T-B类烧结磁石体,在去除所述RH扩散源的状态下,一边旋转一边进行热处理;和

倾斜单元,至少使所述扩散处理部、所述分离部和所述热处理部倾斜。

8.如权利要求7所述的处理装置,其特征在于:

所述分离部具有多个开口部,所述开口部一边使从所述扩散处理部送出的所述RH扩散源和所述R-T-B类烧结磁石体向所述热处理部移动,一边将所述RH扩散源向分离部外侧排出。

9.如权利要求7或8所述的处理装置,其特征在于:

所述扩散处理部具有收容所述RH扩散源和所述R-T-B类烧结磁石体的圆筒形状的第一内壁部,一边使之旋转,一边将所述RH扩散源和所述R-T-B类烧结磁石体向所述分离部送出,

所述分离部具有收容有所述RH扩散源和所述R-T-B类烧结磁石体且设有开口部的圆筒形状的第二内壁部,一边使之旋转,一边将所述RH扩散源从所述开口部向外部排出,且将所述R-T-B类烧结磁石体向所述热处理部送出,

所述热处理部具有收容所述R-T-B类烧结磁石体的圆筒形状的第三内壁部,一边通过所述驱动部使之旋转,一边将所述R-T-B类烧结磁石体向排出口送出。

10.如权利要求7~9中任一项所述的处理装置,其特征在于:

在所述扩散处理部和所述热处理部的内壁部设有螺旋状的挡板,

所述扩散处理部的挡板以螺旋方向与所述热处理部的挡板为相反方向的方式保持。

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