[发明专利]基板运送方法和基板运送系统

说明书

技术领域

本发明涉及适用于在例如多室真空处理装置中的运送机器人和处理室之间传送基板的基板运送方法和基板运送系统。

背景技术

在例如半导体装置的制造领域中，已知在运送室的周围集群状地连接多个处理室的多室真空处理装置。这种真空处理装置在运送室内部具有用于在多个处理室之间运送基板的运送机器人。

运送机器人典型地伴随伸缩、旋转、升降等操作，因而在这些操作进行时需要抑制基板位置偏移的结构。例如在下述专利文件1中，记载了具有在支撑基板的支撑板的上面安装用于防止滑动的多个衬垫部的手柄部的基板运送装置。另外，专利文件2中记载了在载置基板的表面上设置静电吸盘的结构例。

专利文件1：日本特开2002-353291号公报

专利文件2：日本特公平5-66022号公报

近年来，为了通过真空处理装置提高半导体装置的生产率，要求处理室之间的基板运送操作更加高速化。然而，在专利文件1所记载的结构中，当基板温度较高时，手柄部贴附在基板上，在基板转运时可能会使位置精度劣化。另一方面，在专利文件2所记载的结构中，静电吸盘对基板的吸附或释放需要一定时间，因此存在无法迅速进行基板转运操作的不便。

发明内容

鉴于上述情况，本发明的目的在于提供一种能够迅速转运基板而不损害位置精度的基板运送方法和基板运送系统。

为了实现上述目的，本发明的一实施方式涉及的基板运送方法包括将具有静电吸附用的电极的运送机器人的保持面移动到由支撑部件的支撑面所支撑的基板附近的工序。

在对上述电极施加电压的状态下，从上述支撑面向上述保持面转运上述基板。

为了实现上述目的，本发明一实施方式涉及的基板运送系统包括运送机器人、支撑面和控制器。

上述运送机器人具有保持面，上述保持面配置有静电吸附用的电极。

上述支撑面用于支撑基板。

上述控制器构成为能够进行相对于上述支撑面使上述保持面相对移动的移动控制和对上述电极供给电压的供给控制，且在对上述电极施加电压的状态下，通过上述运送机器人将上述基板从上述支撑面向上述保持面转运。

附图说明

图1为本发明的一实施方式涉及的适用于基板运送系统的真空处理装置的简要平面图；

图2为示出了上述真空处理装置中的平台的简要结构的立体图；

图3为上述真空处理装置中的运送机器人的手柄部的立体图；

图4为形成上述手柄部的保持面的静电吸盘部件的平面图；

图5为说明上述真空处理装置中的一连串基板运送程序的各个工序的简要平面图；

图6为说明上述真空处理装置中的一连串基板运送程序的各个工序的简要平面图；

图7为说明上述真空处理装置中的一连串基板运送程序的各个工序的简要平面图；

图8为示出了从上述平台向上述运送机器人的手柄部转运基板的转运工序的简要侧面图；

图9为示出了从上述运送机器人的手柄部向上述平台转运基板的转运工序的简要侧面图；

图10为示出了对上述静电吸盘部件和上述平台上所设置的静电吸盘区域供给吸附电压(チャッキング電圧)的供给例的时序图。

具体实施方式

本发明的一实施方式涉及的基板运送方法包括将具有静电吸附用的电极的运送机器人的保持面移动到由支撑部件的支撑面所支撑的基板附近的工序。

在对上述电极施加电压的状态下，从上述支撑面向上述保持面转运上述基板。

上述基板运送方法在利用运送机器人的保持面对基板进行的保持中使用静电吸盘机构，以在保持面产生静电吸附力的状态下，从支撑面向保持面转运基板。从而，能够在将基板转移至保持面之后立即通过静电吸附力来保持基板，因此能够快速实行基板的运送操作。从而，能够缩短在处理室之间运送基板的时间。

上述基板运送方法进一步可在由所述保持面静电吸附所述基板的状态下，向所述支撑面转运所述基板。利用这样的方法，也能够不损害位置精度而将基板从运送机器人的保持面向处理台的支撑面转运。另外，与解除保持面的静电吸附力之后进行转运的方法相比，由于可省去使基板的静电吸附力消失所需的时间，因而能够快速地转为基板的转运操作。由此，能够进一步缩短处理室之间运送基板的时间。

在从上述保持面向上述支撑面转运上述基板之后，且在从上述支撑面向上述保持面转运上述基板之前，可切换对上述电极所施加的电压的极性。

由此，能够抑制保持面的带电，可确保基板适当的保持操作。