[发明专利]大型基板以及用于均匀抛光的大型基板的抛光方法有效
| 申请号： | 201180038080.4 | 申请日： | 2011-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN103052467A | 公开（公告）日： | 2013-04-17 |
| 发明（设计）人： | 闵庚勋;林艺勋;李大渊;宋在翊;朴寿赞 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B7/20;B24B49/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 许向彤 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 大型 以及 用于 均匀 抛光 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于通过移动上板来抛光基板的方法，所述上板上安装有抛光垫，
其中，所述上板沿着四边形路径执行抛光工艺，以及
其中，所述上板在所述基板的纵向上移动的行程范围（S1）和所述上板在所述基板的横向上移动的行程范围（S2）是被安装在所述上板上的所述抛光垫的直径（D）的90%到100%。
2.根据权利要求1所述的用于抛光基板的方法，其中所述路径形成矩形。
3.根据权利要求2所述的用于抛光基板的方法，其中，所述S1和所述S2具有由以下公式1和2计算的值中的最小值：
公式1
D-d
公式2
其中，
d：所述抛光垫的边缘部分中的磨损部分的径向长度的总和；
D'：所述抛光垫施加到所述基板的压力等于或大于适合磨损所述基板的有效压力（Peff）的部分的直径；
Pend：在所述抛光垫除了所述磨损部分之外的部分中的最外面的点处，所述抛光垫施加到所述基板的压力；以及
Peff：所述抛光垫施加到所述基板的适合磨损所述基板的压力。
4.根据权利要求2所述的用于抛光基板的方法，其中，所述路径形成正方形。
5.一种通过在权利要求1-4的任一个权利要求中限定的方法生产的大型板。
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