[发明专利]磁记录介质用软磁性合金、溅射靶材以及磁记录介质有效
| 申请号： | 201180040330.8 | 申请日： | 2011-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN103098135A | 公开（公告）日： | 2013-05-08 |
| 发明（设计）人： | 泽田俊之;长谷川浩之;岸田敦 | 申请（专利权）人： | 山阳特殊制钢株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/667 | 分类号： | G11B5/667;C22C19/07;C23C14/34;G11B5/851 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 龚敏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 记录 介质 磁性 合金 溅射 以及 | ||
【权利要求书】：
1.一种磁记录介质用软磁性合金，
其以at.％计含有：
Zr及Hf的1种或2种：合计为6～20％、
B：1～20％、
Ti、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Ni、Al、Si、P的1种或2种以上：合计0～7％，
剩余部分含有Co和/或Fe、以及不可避免的杂质，
并且满足下式：
6≤2×(Zr％+Hf％)-B％≤16、以及
0≤Fe％/(Fe％+Co％)＜0.20。
2.根据权利要求1所述的合金，其中，
所述合金以at.％计含有：
Zr及Hf的1种或2种：合计为6～20％、
B：1～20％、
Ti、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Ni、Al、Si、P的1种或2种以上：合计0～7％，
剩余部分仅由Co和/或Fe、以及不可避免的杂质构成。
3.根据权利要求1所述的合金，其中，
Fe的添加量满足下式：
0＜Fe％/(Fe％+Co％)＜0.20。
4.根据权利要求1所述的磁记录介质用软磁性合金，其中，
所述合金含有Ti、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Ni、Al、Si及P的1种或2种以上合计超过0％且在7％以下。
5.一种溅射靶材，其是利用权利要求1～4中任一项所述的合金制造而得的。
6.一种磁记录介质，其具备利用权利要求1～4中任一项所述的合金制造而得的软磁性膜层。
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