[发明专利]光致抗蚀剂残渣及聚合物残渣除去液组合物无效
| 申请号： | 201180042398.X | 申请日： | 2011-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN103080845A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | 大和田拓央 | 申请（专利权）人： | 关东化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;C11D7/26;C11D7/50;H01L21/027;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人： | 徐川;张颖玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 残渣 聚合物 除去 组合 | ||
【权利要求书】：
1.一种组合物，用于通过单片式清洗除去光致抗蚀剂和/或聚合物残渣，含有熔点25℃以上的脂肪族多元羧酸，以及20℃下的蒸汽压为17mmHg以下的具有羟基的有机溶剂。
2.根据权利要求1所述的组合物，其中，含有水。
3.根据权利要求1或2所述的组合物，其中，有机溶剂为选自由一价至三价的脂肪族醇、甘油的一个或两个羟基取代为烷氧基的化合物、四氢糠醇、单亚烷基二醇的单烷基醚、聚亚烷基二醇以及聚亚烷基二醇的单烷基醚组成的组中的一种或两种以上。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的组合物，其中，有机溶剂能与水混溶。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的组合物，其中，有机溶剂的含量为30体积％以上。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的组合物，其中，脂肪族多元羧酸为草酸。
7.一种使用权利要求1～6中任一项所述的组合物通过单片式清洗除去光致抗蚀剂和/或聚合物残渣的方法。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于关东化学株式会社，未经关东化学株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180042398.X/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：古树名木防雷装置
- 下一篇：用于移动电器供电的立体分层旋转式移动插座
