[发明专利]粘合型光学薄膜、其制造方法以及图像显示装置

权利要求书

1.一种粘合型光学薄膜，其特征在于，其为具有光学薄膜和设置于所述光学薄膜的粘合剂层的粘合型光学薄膜，

所述粘合剂层的厚度(μm)的标准偏差值为0.12μm以下。

2.根据权利要求1所述的粘合型光学薄膜，其特征在于，所述光学薄膜为在偏振片的单侧具有第一透明保护薄膜或者在两侧具有第一透明保护薄膜以及第二透明保护薄膜的偏光板，

所述第一透明保护薄膜的雾度值为15%以下，

所述粘合剂层设置于偏光板的不具有所述第一透明保护薄膜侧。

3.根据权利要求1或2所述的粘合型光学薄膜，其特征在于，所述第一透明保护薄膜的厚度为60μm以下。

4.根据权利要求2或3所述的粘合型光学薄膜，其特征在于，所述偏光板在偏振片的两侧具有第一透明保护薄膜以及第二透明保护薄膜，第一透明保护薄膜以及第二透明保护薄膜的至少任一者的厚度为60μm以下。

5.根据权利要求2～4的任一项所述的粘合型光学薄膜，其特征在于，所述偏振片的厚度为10μm以下。

6.根据权利要求1所述的粘合型光学薄膜，其特征在于，所述光学薄膜为相位差板。

7.根据权利要求6所述的粘合型光学薄膜，其特征在于，所述相位差板的厚度为60μm以下。

8.根据权利要求1所述的粘合型光学薄膜，其特征在于，所述光学薄膜的雾度值为15%以下。

9.根据权利要求8所述的粘合型光学薄膜，其特征在于，所述光学薄膜是以贴合于前面板或者触摸面板为目的的光学薄膜。

10.根据权利要求8或9所述的粘合型光学薄膜，其特征在于，所述光学薄膜的厚度为60μm以下。

11.根据权利要求8～10的任一项所述的粘合型光学薄膜，其特征在于，所述光学薄膜为表面处理薄膜。

12.一种粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，其为具有光学薄膜和设置于所述光学薄膜的粘合剂层的权利要求1～11的任一项所述的粘合型光学薄膜的制造方法，

其具有：

工序(1A)：将粘度Y(P)的粘合剂涂覆液以涂覆厚度X(μm)涂覆在所述光学薄膜上；以及，

工序(2A)：将涂覆的粘合剂涂覆液干燥，形成粘合剂层，

而且，所述粘合剂涂覆液的粘度Y和涂覆厚度X满足0.8X－Y≤68。

13.一种粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，其为具有光学薄膜和设置于所述光学薄膜的粘合剂层的权利要求1～11的任一项所述的粘合型光学薄膜的制造方法，

其具有：

工序(1B)：将粘度Y(P)的粘合剂涂覆液以涂覆厚度X(μm)涂覆在脱模薄膜上；

工序(2B)：将涂覆的粘合剂涂覆液干燥，形成粘合剂层；

以及，

工序(3)：将形成于脱模薄膜上的粘合剂层贴合于所述光学薄膜上；

而且，所述粘合剂涂覆液的粘度Y和涂覆厚度X满足0.8X－Y≤68。

14.根据权利要求12或13所述的粘合型光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述粘合剂涂覆液的粘度Y(P)为2～160P，涂覆厚度X(μm)为20～250μm。

15.一种粘合型光学薄膜，其特征在于，其为至少两张光学薄膜和至少两层粘合剂层分别交替层叠的粘合型光学薄膜，

所述粘合剂层的至少任一层的厚度(μm)的标准偏差值为0.12μm以下。

16.根据权利要求15所述的粘合型光学薄膜，其特征在于，所述至少两层粘合剂层的厚度(μm)的标准偏差值均为0.12μm以下。

17.根据权利要求15或16所述的粘合型光学薄膜，其特征在于，所述光学薄膜的一张为在偏振片的单侧具有第一透明保护薄膜或者在两侧具有第一透明保护薄膜以及第二透明保护薄膜的偏光板，

所述第一透明保护薄膜的雾度值为15%以下，

所述粘合剂层设置于偏光板的不具有所述第一透明保护薄膜侧。

18.根据权利要求17所述的粘合型光学薄膜，其特征在于，所述第一透明保护薄膜的厚度为60μm以下。