[发明专利]用于基板的载具及组装该载具的方法

说明书

发明所属的技术领域

本发明关于薄膜的真空沉积领域中用于基板的载具及组装该载具的方法。具体而言，本发明针对用于基板的载具，其中该载具包括两个框架。

发明背景

薄膜沉积技术对于众多设备的生产发挥着关键作用。在复合沉积生产线中，实现操作时间最大化（亦即，将维护及装载时间缩至最短）是十分理想的。以此方式，增加沉积生产线的效率，这对于这种系统的工业成功而言十分重要。

DE102005045718B1揭示用于基板的载具，其中该载具的至少一部分由具有一定热膨胀系数的材料组成，该材料的热膨胀系数大于基板的热膨胀系数，该载具的特征在于该载具的预定区域具有桥状物，该桥状物经中心附接，该桥状物具有的热膨胀系数小于与该桥状物附接的区域的热膨胀系数。

DE102005045717B3揭示用于基板的载具，该载具具有两个水平的及两个垂直的平板。

EP1840242A1显示经由真空室输送基板的装置，具体而言，显示具有基板载具的涂布设施，基板可附接于该基板载具上或附接于该基板载具处，其中该基板载具包括至少一个护轨，该护轨沿着该基板载具的至少一侧延伸，且其中该护轨为孔，该孔通过一个或若干间隔开的轴承而与该基板载具间隔开。

发明内容

本发明针对如权利要求1中所揭示的一种用于基板的载具及如权利要求10中所提供的一种用于组装载具的方法，该载具包括两个框架。较佳实施例描述于从属权利要求中。

在本发明的一个总体方面中，用于要在真空室中涂布的基板的载具包含：第一框架，该第一框架包含两个垂直部分及两个水平部分，该两个垂直部分及两个水平部分经尺寸调整以围绕该基板；第二框架，该第二框架经尺寸调整以界定要涂布的基板的区域，且该第二框架经尺寸调整以覆盖该第一框架的至少第一部分，从而在该第二框架安装至该第一框架时，防止该第一框架的该第一部分被涂布；以及其中该第二框架以可拆卸的方式安装至该第一框架。在沉积制程中，尤其在包括使基板移动的沉积制程中，任何框架或其他固持器构件可曝露于沉积源，且任何框架或其他固持器构件可通过沉积材料来涂布，该沉积材料在该框架或其他固持器构件上形成涂布材料的层。在执行预定次数的沉积之后，该框架或固持器上的该涂布材料可拆卸，从而形成粒子，这些粒子以未经控制的方式转移（例如）至该基板或该沉积设施的其他部分上。这些粒子可对经处理的基板造成有害影响，在某些情况下这些粒子甚至可毁坏这些经处理的基板。因此，需要对该框架或固持器进行定期清洁，以在到达可能造成脱离的临界条件（例如，经沉积材料的层的厚度）之前移除经沉积的材料。该框架的拆卸及清洁自然会导致该沉积设备停工。本发明的载具包含两个框架，该载具可确保该第二框架可较容易地拆卸且清洁，而该第一框架通过该第二框架而被部分或全部保护以免受涂布。因此，相比于该第二框架，该第一框架可能需要清洁的频率更低。在一些情况下，该第一框架可能并没有被实质上涂布，因此在任何时候皆没有经沉积的材料必须被移除。这种框架可连续地用于沉积设备，而无间歇的清洁周期。替代或另外地，此举可促进：该第一框架可永久地安装于沉积设备内部，因为该第一框架可不必定期拆卸且清洁。此举可进一步降低该沉积设备的复杂性。

“真空室”的上下文中的术语“真空”涉及以下情况：其中外壳（例如，腔室）内部的压力经调整以具有任何低于大气压力的预定压力，在较佳方面中，该压力可低于300毫巴，低于10^-3毫巴（高真空）或低于10^-7毫巴（超高真空）。

在其他方面中，该第二框架经尺寸调整以防止该基板的边缘区域被涂布。

在其他方面中，该第二框架包含两个垂直部分及两个水平部分。在较佳方面中，可由四个部分组装该第二框架，该四个部分包括这些垂直及水平部分。此举可能有利，因为认为由不同部分组装的框架比整体框架更具生产的成本效率。这些框架可具有任何预定尺寸。或者，可由单块材料整体地形成这些框架，尤其是在这些框架的尺寸小于预定尺寸的情况下。一旦该框架的尺寸超过预定限制，则由两个垂直部分及两个水平部分组装该第二框架可更高效。此举可具有以下优点：在这些部分上存在缺陷的情况下，单个部分可经迅速交换。