[发明专利]真空成膜装置

权利要求书

1.一种真空成膜装置，是在真空状态下对多个基材成膜的真空成膜装置，具备：

用于支持所述基材的多个支持部；

支持并搬运所述多个支持部的搬运单元；和

具有用于搬入及搬出所述搬运单元的开口部以及用于开闭该开口部的门部，且用于形成真空状态的真空槽；

所述搬运单元支持所述多个支持部以使所述多个支持部在向所述真空槽的搬运方向上直列地配置；

所述开口部根据所述搬运单元的尺寸而形成。

2.根据权利要求1所述的真空成膜装置，其特征在于，

所述搬运单元具备加热蒸发成膜材料，用于在支持于所述支持部的基材上形成膜的一个以上的蒸发源；

所述支持部及所述蒸发源在所述搬运方向上直列地配置，且在该支持部之间配设该蒸发源。

3.根据权利要求1或2所述的真空成膜装置，其特征在于，所述支持部旋转自如地支持基材。

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的真空成膜装置，其特征在于，具备装载所述搬运单元，并且在水平面上在与所述搬运方向不同的方向上能移动该搬运单元的移动台。

5.根据权利要求1至4中任意一项所述的真空成膜装置，其特征在于，所述门部相对于所述开口部左右移动，从而开闭该开口部。

6.根据权利要求1至4中任意一项所述的真空成膜装置，其特征在于，所述门部形成为一边的侧部通过铰链与所述真空槽接合，并且以该铰链为轴画出弧形地开闭所述开口部。