[发明专利]涂敷装置以及涂敷膜形成系统有效

专利信息
申请号: 201180050511.9 申请日: 2011-09-13
公开(公告)号: CN103168379A 公开(公告)日: 2013-06-19
发明(设计)人: 井上正雄 申请(专利权)人: 大日本网屏制造株式会社
主分类号: H01M4/139 分类号: H01M4/139;B05C5/02;H01M4/04
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 宋晓宝;郭晓东
地址: 日本国京*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 装置 以及 涂敷膜 形成 系统
【权利要求书】:

1.一种涂敷装置,在带状的基体材料的第一主表面上形成有活性物质的第一涂敷膜的状态下,向上述基体材料的第二主表面涂敷活性物质的涂敷液,由此在上述第二主表面上形成第二涂敷膜,其特征在于,

上述第一涂敷膜沿着上述基体材料的长度方向形成,并且在形成上述第二涂敷膜时,上述基体材料沿着上述长度方向被搬运,

上述涂敷装置具有:

(a)喷嘴,从沿着上述基体材料的宽度方向的狭缝状的喷出口朝向上述基体材料的上述第二主表面喷出上述涂敷液;

(b)位置检测部,在沿着上述长度方向的上述基体材料的搬运路径中,该位置检测部配置在位于上述喷嘴的喷出位置的上游侧的检测位置,并且针对上述基体材料的各部分检测上述第一涂敷膜在上述宽度方向上的第一两端位置;

(c)驱动部,使上述喷嘴沿着上述宽度方向移动;

(d)控制部,基于上述位置检测部所检测的上述第一两端位置,来决定上述喷嘴在上述宽度方向上的位置,由此决定上述第二涂敷膜在上述基体材料的各部分上的形成位置。

2.根据权利要求1所述的涂敷装置,其特征在于,

上述位置检测部为二维激光位移计。

3.根据权利要求1所述的涂敷装置,其特征在于,

上述位置检测部具有:

(b-1)拍摄部,能够对上述第一涂敷膜在上述宽度方向上的两端附近进行拍摄;

(b-2)运算部,基于上述拍摄部所拍摄的图像,来运算上述第一涂敷膜在上述宽度方向上的上述第一两端位置。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的涂敷装置,其特征在于,

上述位置检测部针对上述基体材料的各部分检测上述第一两端位置,并且检测上述基体材料在上述宽度方向上的第二两端位置。

5.一种涂敷膜形成系统,其特征在于,具有:

权利要求1至4中任一项所述的涂敷装置;

干燥装置,使由上述涂敷装置涂敷的上述基体材料上的上述涂敷液干燥。

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