[发明专利]有机膜形成装置以及有机膜形成方法

权利要求书

1.一种有机膜形成装置，形成当照射光时进行固化的光反应性材料的有机膜，其具有：

真空槽；

从配置于所述真空槽内的多个喷出口，喷出光反应性材料的喷淋板；

至少与所述喷淋板面对的面被配置于所述真空槽内的基板台；

将配置于所述基板台上的成膜对象物进行冷却的冷却装置；

将配置于所述基板台上的所述成膜对象物的掩模进行保持的掩模保持装置；

在所述喷淋板与所述基板台之间移动的同时，朝向所述掩模放射光的光照射装置；以及

使所述喷淋板升温的加热装置。

2.根据权利要求1所述的有机膜形成装置，其中，

具有：

包围所述喷淋板与所述基板台之间的空间中接近所述基板台的部分的屏蔽板；以及

加热所述屏蔽板的屏蔽板用加热装置，

以朝向作为由所述屏蔽板包围的空间的成膜空间，从所述喷淋板喷出所述光反应性材料的方式来构成，

将所述真空槽内进行真空排气的排气口设置在所述成膜空间的外部。

3.根据权利要求1或2所述的有机膜形成装置，其中，

所述光照射装置以从所述成膜空间的外侧，通过所述屏蔽板与所述喷淋板之间，并通过所述基板台与所述喷淋板之间的方式来构成。

4.一种有机膜形成方法，其为将当照射光时进行固化的光反应性材料的有机膜形成在成膜对象物的表面的有机膜形成方法，

在真空槽内配置的基板台上配置所述成膜对象物，

在所述成膜对象物的表面接触配置掩模，

冷却所述成膜对象物，将所述真空槽内进行真空排气的同时，从所述掩模上喷出所述光反应性材料，并使其附着于在所述掩模的开口底面露出的所述成膜对象物的表面，在附着的部分形成所述光反应性材料的液状膜，

在停止了所述真空槽内的真空排气的状态下，

在放射光的光照射装置中，在所述掩模上移动的同时，使所述光放射，

使入射到位于露出于所述开口底面的所述成膜对象物表面上的所述液状膜，并使所述液状膜固化，形成所述光反应性材料的有机膜。

5.根据权利要求4所述的有机膜形成方法，其中，

以屏蔽板包围所述基板台上的空间，

将由所述真空槽内的所述屏蔽板包围的成膜空间的外侧进行真空排气，

加热所述屏蔽板的同时，使所述光反应性材料充满所述成膜空间。

6.根据权利要求4或5所述的有机膜形成方法，其中，

从所述光照射装置使光放射并照射所述液状膜时，停止所述真空槽内的真空排气。