[发明专利]清纱器和用于清纱的方法无效
申请号: | 201180050665.8 | 申请日: | 2011-10-05 |
公开(公告)号: | CN103270413A | 公开(公告)日: | 2013-08-28 |
发明(设计)人: | 拉法里奥·斯托兹;P·施密特;斯蒂芬·格里克 | 申请(专利权)人: | 乌斯特技术股份公司 |
主分类号: | G01N33/36 | 分类号: | G01N33/36;B65H63/06 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 丁纪铁 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清纱器 用于 方法 | ||
技术领域
本发明在于在纺织质量控制领域。它根据独立权利要求的前序部分涉及到一种清纱器和一种用于清纱的方法。
背景技术
所谓的清纱器应用于确保在纺纱机或绕线机上的成纱质量。这样的清纱器是已知的,例如从EP-0’439’767A2。它包含具有至少一个传感器的清纱器测量头,其扫描移动的纱线并且测量纱线的至少一个参数。清纱的目的在于检测纱疵,如厚的地方,薄的地方或在纱线中的异物,以按照一定的质量标准评估它们,并视情况而定来消除他们。最常见的传感器原理如下:
电容测量原理:参考US-6,346,819B1。纱线被引导通过测量冷凝器的空气间隙。测量冷凝器主要是测量在它内部的纱线质量。电容测量原理具有较高的测量精度和灵敏度,其多年来是稳定的。它的缺点是不期望出现的对湿度变化的敏感和导电纱的不可用性。光学测量原理:参考US-2006/164,646A1。纱线被照亮,并且检测由纱线反射和/或传输的光。检测到的光是对纱线直径和/或纱线的光学特性,如它的反射率、颜色等的量度。光学测量原理对直径的变化较不敏感并且在较长的时间内比电容更不稳定。然而,它对于电容测量原理不适合的那些应用可能是有利的,例如,在具有较大空气湿度变化的环境中或对于导电纱。在纱线中的异物,其具有与纱线基材的反射率大不相同的反射率,可以通过光学测量原理以简单的方式来检测。
已经提出使用不同的传感器来扫描纱线并且结合不同的传感器信号来进行评估。比如CN-2’896’282Y提出结合电容和光电传感器用于分别检测相同纱线的密度和直径。这两个传感器以主从模式来操作,并且它们的信号通过采用两个信号的加权综合来处理。
US-2003/107,729A1教导沿着纱线路径一个在另一个后面地设置两个传感器。第一传感器测量来自纱线的光反射;第二传感器电容性地或光学地分别测量纱线的质量或直径。两个传感器的输出信号根据一定的评估标准来进行评估。基于评估,至少两种异物被彼此区分开来。发明内容
本发明的一个目的在于提供一种清纱器和一种可以易于使用的清纱方法。
所述目的由如在独立权利要求中限定的清纱器和清纱方法解决。本发明的有利实施例在从属权利要求中限定。
本发明的基本思想在于提供一种具有电容和光学测量单元的清纱器,两个测量单元适应于检测纱线不均匀性以及在纱线中的异物。两个不同测量单元每个可以由操作者或自动地单独接通和关断。
因此,根据本发明的清纱器包括测量头,其具有用于检测纱线的特性的电容测量单元和光学测量单元。两个测量单元沿着纱线的路径在纵向方向上彼此相邻地设置。所述清纱器还包括评估单元,用于将所检测到的纱线特性与预定质量标准进行比较,以及切割器装置,用于在收到来自评估单元的切割命令时切割所述纱线。所述电容测量单元适用于检测纱线质量的变化,而所述光学测量单元适用于检测纱线直径的变化。所述评估单元适用于如果由电容测量单元检测到的纱线直径变化和/或由光学测量单元检测到的纱线质量变化不符合预定的质量标准时,输出不均匀切割命令。电容测量单元和光学测量单元两者都适用于检测在纱线中的异物。所述评估单元适用于如果由电容测量单元检测到的异物含量和/或由光学测量单元检测到的异物含量不符合预定的质量标准时,输出异物切割命令。
在第一替代中,所述清纱器包括:输入单元,其允许操作者输入是否由电容测量单元检测到的纱线质量变化或由光学测量单元检测到的纱线直径变化或两个所述变化应该触发不均匀切割命令。所述输入单元也可以允许操作员输入是否应该由电容测量单元检测到的异物含量或由光学测量单元检测到的异物含量或由两个所述异物含量触发异物切割命令。
在第二替代中,所述清纱器包括:比较单元,其用于将由电容测量单元检测到的纱线质量变化与由光学测量单元检测到的纱线直径变化进行比较,以及用于基于该比较自动确定是否应该由电容测量单元检测到的纱线质量变化或由光学测量单元检测到的纱线直径变化或由两个所述变化触发不均匀切割命令。所述比较单元也可以存在用于将由电容测量单元检测到的异物含量与光学测量单元检测到的异物含量进行比较,并用于基于该比较自动确定是否应该由电容测量单元检测到的异物含量或由光学测量单元检测到的异物含量或由两个所述异物含量触发异物切割命令。
所述测量头可进一步包括信号处理单元,用于预处理来自所述测量单元、评估单元和切割器装置的信号。
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