[发明专利]薄膜曝光装置以及薄膜曝光方法

权利要求书

1.一种薄膜曝光方法， 

在使薄膜基材上形成有曝光材料膜的薄膜从卷绕该薄膜的供给卷轴移动到曝光后的薄膜被重绕的重绕卷轴期间，通过经由掩模对所述薄膜的所述曝光材料膜照射曝光光，在所述曝光材料膜中曝光所述掩模的图案的薄膜曝光方法，

该薄膜曝光方法的特征在于，

在所述薄膜基材的宽度方向的两侧的薄膜基材送给用区域的至少一个区域，与该薄膜基材送给用区域间的曝光区域同样地，形成侧部曝光材料膜，对该侧部曝光材料膜照射定位标记用曝光光来形成定位标记，使用该定位标记检测薄膜弯曲行进，调整所述掩模的位置。

2.如权利要求1所述的薄膜曝光方法，其特征在于，

所述曝光光和所述定位标记用曝光光能使用不同种类的激光，或者能兼用相同的激光。

3.一种薄膜曝光装置，其特征在于，

具有：

曝光光源，射出曝光光；

掩模，在薄膜中形成应曝光的图案；

光学系统，将从所述曝光光源射出的曝光光经由所述掩模照射到所述薄膜；

薄膜搬运部，使薄膜基材上形成有曝光材料膜的薄膜从卷绕该薄膜的供给卷轴移动到曝光后的薄膜被重绕的重绕卷轴，在该期间使基于所述掩模和所述光学系统的曝光位置通过；

定位标记用光源，在所述薄膜基材的宽度方向的两侧的薄膜基材送给区域的至少一个区域照射定位标记形成用的激光；以及

控制部，使用所述定位标记来检测薄膜弯曲行进，并调整所述掩模的位置，

所述薄膜在来自所述定位标记用光源的激光照射的区域形成有侧部曝光材料膜，通过基于所述激光的照射，在所述侧部曝光材料膜中形成定位标记。

4.如权利要求3所述的薄膜曝光装置，其特征在于，

所述曝光光源和所述定位标记用光源能使用不同种类的激光源，或者能兼用相同的激光源。