[发明专利]薄膜曝光装置以及薄膜曝光方法

说明书

技术领域

本发明涉及薄膜曝光装置以及薄膜曝光方法，特别是，涉及在将薄膜进行连续曝光时，能高精度地修正薄膜的弯曲行进，并能稳定地曝光的薄膜曝光装置以及薄膜曝光方法。

背景技术

目前，例如在对平板状的基板等的部件进行曝光时，为了将该曝光位置进行高精度地管理，例如使用表面上实施了规定的标记的基板，通过该标记，来决定曝光中使用的掩模的位置（例如，专利文献1至3），或者设置与承载基板的托盘进行对位用的销（pin）（例如，专利文献4）。

但是，在如辊旋转（roll troll）方式那样，作为曝光对象的薄膜被连续地提供给曝光装置内的情况下，难以适用上述那样的平板状部件的曝光中的对位技术。即，在辊旋转方式的薄膜的生产线中，例如在如图8所示的工序中，与将成为曝光对象的薄膜提供给曝光装置1内，并且对平板状的基板等进行曝光的情况不同，在搬运中的薄膜1中，基于其柔软性，容易产生拍动。

另外，在如图8所示的辊旋转方式的薄膜的生产线中，在所有的加工工序中，进行利用了薄膜的柔软性的处理。即，将薄膜2从供给卷轴80退卷并提供给生产线，在前处理部3中例如实施干燥清洗以及表面改质等的前处理，并由狭缝涂布机4在表面涂布规定的材料之后，对已涂布的材料由干燥装置5进行干燥。进而，将表面上形成有材料膜的薄膜2提供给曝光装置1，对材料膜由曝光装置1进行曝光。此时，各装置间例如由滚轴9进行支承，通过其旋转来搬运薄膜2。由此，将专利文献1至4中公开的技术适用于辊旋转方式的薄膜2的曝光中是困难的。

作为由辊旋转方式对薄膜进行曝光的情况中的掩模的对位技术，例如有专利文献5中公开的技术。在专利文献5中，公开有在1张薄膜中将曝光分成2次来进行的技术，即公开有在薄膜中实施第一次曝光而形成图案之后，在第二次曝光时，通过由线阵CCD检测出该图案，来调节掩模的位置的技术。此外，如该专利文献5的图2所示，薄膜的宽度方向的两侧的带状的部分不是曝光区域。

图9是表示将对应于一个掩模12两侧对向地配置一对射出曝光光的曝光光源11，并且对曝光对象例如基板20，从相互不同的方向照射曝光光的型式的现有的曝光装置作为一个例子的图。这样的型式的曝光装置使用于例如在液晶显示器等的玻璃基板上形成取向膜时的曝光工序中，将玻璃基板上的成为1像素的区域分割成2个区域，在各个区域使取向膜在相互不同的方向进行取向，由此，使夹持于玻璃基板间的液晶的分子根据取向膜的取向方向进行取向，因此，作为能扩大液晶显示器等的视野角的技术，最近引起很大的注目。

在通过这样的曝光装置将薄膜进行曝光时，在薄膜的搬运中容易产生拍动，由此，存在产生曝光位置的偏移的问题。为了降低该曝光位置的偏移的影响，例如，如上述的那样在薄膜的移动方向配置了多个光源的结构的曝光装置中，例如，如图10所示，将掩模分割为多个，进一步进行交错配置。进而，如图10所示，在薄膜被供给的上游侧，通过相互隔离配置的掩模121和122，将薄膜2在曝光区域A和C进行曝光，在下游侧，将曝光区域A和C之间的区域B由掩模123进行曝光，将邻接于曝光区域C的区域D由掩模124进行曝光。由此，在薄膜2的几乎整个面能形成取向分割的图案。

（现有技术文献）

专利文献 

专利文献1 ： 特开昭62-294252号公报；

专利文献2 ： 特开2005-283896号公报；

专利文献3 ： 特开2005-316411号公报；

专利文献4 ： 国际公开第08／139643号；

专利文献5 ： 特开2006-292919号公报。

发明内容

（本发明所要解决的技术问题） 

但是，在上述的现有技术中，存在以下的问题。即，专利文献5的技术需要在1张薄膜中分2次进行曝光操作，生产性差。

另外，在薄膜的移动方向配置了多个光源的结构的曝光装置中，如图9所示，内置曝光用的曝光光源11的部分（曝光光源11的壳体部分），按1光源，例如在薄膜的移动方向具有约2m左右的长度，如图10所示的曝光区域A和C与曝光区域B和D之间的距离至少变长为4m左右。由此，在从上游侧的曝光区域A和C到下游侧的曝光区域B和D的搬运中，不仅存在薄膜容易拍动而且在其宽度方向还存在容易偏移的问题。因此，在薄膜的移动方向下游侧的曝光区域中，通过薄膜的宽度方向的位置偏移，有时曝光区域会重叠，有时产生未曝光的区域。