[发明专利]膜曝光装置

权利要求书

1. 一种膜曝光装置，具有：

光源，出射曝光光；

掩模，形成有既定的光透射区域的图案，使来自所述光源的曝光光与所述图案对应地透射；

膜供给部，将曝光对象的膜从其前端部起连续地供给至透射该掩模的光透射区域后的光的光路上；以及

掩模支撑部，支撑所述掩模，

将透射所述掩模的光透射区域后的光照射至在所述膜的表面形成的曝光材料而对所述膜进行曝光，所述膜曝光装置的特征在于，具有：

引入标记形成部，在所述膜的前端部形成作为所述掩模的初始位置的基准的引入标记；

检测部，检测相对所述膜的移动方向而言在垂直的方向上的所述引入标记与所述掩模上的标记之间的距离；以及

掩模位置控制部，根据该检测部产生的检测结果，调整相对所述膜的移动方向而言在垂直的方向上的所述掩模的位置。

2. 如权利要求1所述的膜曝光装置，其特征在于，所述掩模上的标记在比所述光透射区域更靠近所述膜供给部侧的位置形成。

3. 如权利要求1或2所述的膜曝光装置，其特征在于，所述掩模在相对所述膜的移动方向而言垂直的方向配置有多个，所述引入标记形成部与各个掩模对应地在所述膜的前端部形成多个引入标记。

4. 如权利要求3所述的膜曝光装置，其特征在于，所述多个掩模在相对所述膜的移动方向而言垂直的方向配置成交错状。

5. 如权利要求1至4的任一项所述的膜曝光装置，其特征在于，所述引入标记形成部具有：台架部，在相对所述膜的移动方向而言垂直的方向延伸；作标记部，形成所述引入标记；以及输送部，使该作标记部沿所述台架部的长度方向移动。

6. 如权利要求1至5的任一项所述的膜曝光装置，其特征在于，具有：对准标记形成部，在比所述掩模更靠近所述膜供给部侧配置，在从所述膜供给部供给过来的膜的边缘部形成对准标记；以及第2检测部，在所述膜的移动方向下游侧检测该对准标记的位置，所述掩模位置控制部根据所述第2检测部产生的检测结果，在连续地供给所述膜期间，调整相对所述膜的移动方向而言在垂直的方向上的所述掩模的位置。