[发明专利]膜曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及膜曝光装置，特别涉及能够精度良好地设定开始膜的曝光时的掩模的位置、能够稳定地进行膜的曝光的膜曝光装置。

背景技术

一直以来，在曝光例如平板状的基板等部件时，为了精度良好地管理其曝光位置，例如使用表面上实施了既定的标记的基板，通过作标记，来决定用于曝光的掩模的位置，或将对位用的销设置于承载基板的板架（パレット）（例如，专利文献1、2）。

然而，在曝光对象为膜的情况下，难以应用如上所述的平板状部件的曝光中的对位技术。即，作为曝光对象的膜，在例如图9所示的工序中，在卷到卷（ロールトゥロール）方式的生产线的途中被供给至曝光装置1，但与曝光平板状的基板等情况不同，由于其柔软性，在输送中的膜1容易产生起伏。

另外，在如图9所示的卷到卷方式的膜的生产线中，在各加工工序，进行利用了膜的柔软性的处理。即，从卷20将膜2解开卷而供给至生产线（ライン），在预处理部3实施例如干洗及表面改质等预处理，在缝涂布机（スリットコーター）4将既定的材料涂敷于表面后，所涂敷的材料在干燥装置5进行干燥。而且，在表面上形成有材料膜的膜2被供给至曝光装置1，材料膜在曝光装置1进行曝光。此时，膜2在各装置间例如由辊9支撑，通过其旋转来输送。因此，难以将专利文献1及2所公开的技术应用于膜2的曝光。

作为膜的曝光中的掩模的对位技术，有例如专利文献3所公开的技术。在专利文献3公开了对1枚膜分2次进行曝光的技术，公开在对膜实施第1次曝光而形成图案后，在第2次曝光时，用线阵CCD（ラインCCD）来检测该图案，根据该检测结果来调节掩模的位置的技术。

然而，该专利文献3的技术，在膜被以既定的图案曝光1次的情况下，通过对该图案进行摄像，能够调整掩模的位置，但在对尚未进行曝光处理的膜初次进行曝光的情况下，不能够精度良好地设定掩模的位置。

图10是作为一个例子示出出射曝光光的光源11与1个掩模12对应地1对1对相向配置，对于曝光对象例如基板20从互相不同的方向照射曝光光型式的现有的曝光装置的图。这种型式的曝光装置，例如在将取向膜形成于液晶显示器等玻璃基板上时的曝光工序中使用，将玻璃基板上的成为1个像元（絵素）的区域分割为2个区域，在各个的区域中将取向膜沿互相不同的方向取向，由此，使玻璃基板间挟持的液晶分子按照取向膜的取向方向取向，由此，作为能够扩大液晶显示器等的视角的技术，近来引人注目。

在利用这样的曝光装置对膜进行曝光时，在输送中膜容易产生起伏，由此，存在产生曝光位置的偏离这一问题点。为降低该曝光位置的偏离的影响，例如，在如上所述的膜的移动方向配置多个光源的构造的曝光装置中，例如图11所示，将掩模分割为多个，进而配置为交错状。而且，如图11所示，在将膜供给过来的上游侧，利用互相隔离配置的掩模121及122，在曝光区域A及C对膜2进行曝光，在下游侧，利用掩模123对曝光区域A及C间的区域B进行曝光，利用掩模124对与曝光区域C邻接的区域D进行曝光。由此，能够在膜2的大致整个面形成取向分割的图案。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开昭62－294252号公报；

专利文献2：国际公开第08/139643号；

专利文献3：日本特开2006－292919号公报。

发明内容

发明要解决的课题

然而，上述专利文献3的技术是仅在预先以高精度在膜形成有既定的图案的情况下，才能以高精度进行第2次以后的曝光的技术，而以高精度设定初次对膜进行曝光时的掩模的位置的技术尚未提出。因此，在开始膜的曝光时曝光位置偏离这一课题还未解决。

另外，在如上所述的沿膜的移动方向配置多个光源的构造的曝光装置中，如图10所示，内置曝光用的光源11的部分（光源11的壳体部分），每1个光源例如沿膜的移动方向具有约2m左右的长度，如图11所示的曝光区域A及C和曝光区域B及D之间的距离，至少长达4m左右。因此，在从上游侧的曝光区域A及C向下游侧的曝光区域B及D的输送中，膜不仅容易起伏，而且存在在其宽度方向也容易偏离这一问题点。因此，1个曝光区域中的曝光位置的偏离之外，再加上在上游侧的曝光区域A及C与下游侧的曝光区域B及D之间，膜在宽度方向错位，由此，存在曝光区域重叠或产生未曝光的区域这一问题点。

本发明是鉴于这样的问题点而完成的，目的在于提供能够在开始膜的曝光时精度良好地设定掩模的位置，以高曝光精度对膜进行稳定地曝光的膜曝光装置。

为解决课题的方案