[发明专利]质量分析装置及质量分析方法有效
申请号: | 201180054884.3 | 申请日: | 2011-11-17 |
公开(公告)号: | CN103222031A | 公开(公告)日: | 2013-07-24 |
发明(设计)人: | 安田博幸;吉冈信二 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立高新技术 |
主分类号: | H01J49/42 | 分类号: | H01J49/42;G01N27/62;H01J49/06;H01J49/40 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 齐秀凤 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 质量 分析 装置 方法 | ||
1.一种质量分析装置,其特征在于,具备:
碰撞室,其具有线形多极电极,对所述线形多极电极间叠加施加碰撞交流电压与第1直流电压,使分子离子与中性分子发生碰撞,进行所述分子离子的碰撞引发离解来生成碎片离子,并在按照每一所述线形多极电极而分割的前级电极与后级电极之间施加第2直流电压,使所述碎片离子在沿着所述线形多极电极的方向上进行加速;
质量分析部,其根据质荷比,对在所述碰撞室中加速后的所述碎片离子进行质量分离;和
控制部,其按照与所述碎片离子的质荷比无关地使所述碰撞室内的所述碎片离子的速度成为相等的方式,基于由所述质量分析部选择的所述碎片离子的质荷比来决定所述第2直流电压。
2.根据权利要求1所述的质量分析装置,其特征在于,
由所述质量分析部选择的质荷比越大,所述控制部使所述第2直流电压越大。
3.根据权利要求1所述的质量分析装置,其特征在于,
由所述质量分析部选择的质荷比越大,
则经过所述碰撞室后可由所述质量分析部进行质量分离的所述碎片离子的质荷比的上限越变小。
4.根据权利要求1所述的质量分析装置,其特征在于,
所述控制部基于由所述质量分析部选择的所述碎片离子的质荷比,按照使所选择的所述碎片离子透过所述碰撞室内的方式决定所述碰撞交流电压与所述第1直流电压的至少一者。
5.根据权利要求1所述的质量分析装置,其特征在于,
所述质量分析部具有为了根据质荷比对所述碎片离子进行质量分离而被施加分析交流电压与分析直流电压的分析用多极电极,
所述控制部在从开始施加所述第2直流电压起经过了所述碎片离子透过所述碰撞室所需的一定时间后,开始施加所述分析交流电压与所述分析直流电压中的至少一者。
6.根据权利要求1所述的质量分析装置,其特征在于,
所述质量分析部具有为了根据质荷比对所述碎片离子进行质量分离而被施加分析交流电压与分析直流电压的分析用多极电极,
所述控制部使所述碰撞交流电压与所述分析交流电压同步并设为相同电位。
7.根据权利要求6所述的质量分析装置,其特征在于,
由所述质量分析部选择的质荷比越大,
则经过所述碰撞室后可由所述质量分析部进行质量分离的所述碎片离子的质荷比的上限越变大。
8.根据权利要求7所述的质量分析装置,其特征在于,
由所述质量分析部选择的质荷比越大,
则经过所述碰撞室后可由所述质量分析部进行质量分离的所述碎片离子的所述质荷比的下限以比所述上限变大的速率小的速率越变大。
9.根据权利要求1所述的质量分析装置,其特征在于,
所述控制部对选择的所述碎片离子的质荷比进行扫描,
所述控制部按照与所述碎片离子的质荷比无关地使所述碰撞室内的所述碎片离子的速度成为相等的方式,与由所述质量分析部选择的所述碎片离子的质荷比的扫描同步地对所述第2直流电压进行扫描,
所述控制部取得按照每一所述质荷比而被质量分离后的所述碎片离子的量。
10.根据权利要求9所述的质量分析装置,其特征在于,
所述控制部基于由所述质量分析部选择的所述碎片离子的质荷比,按照使所选择的所述碎片离子透过所述碰撞室内的方式,与所述质量分析部选择的所述碎片离子的质荷比或者所述第2直流电压的扫描同步地对所述碰撞交流电压和所述第1直流电压的至少一者进行扫描。
11.根据权利要求9所述的质量分析装置,其特征在于,
所述质量分析部具有为了根据质荷比对所述碎片离子进行质量分离而被施加分析交流电压和分析直流电压的分析用多极电极,
所述控制部在从所述第2直流电压的扫描开始起经过了所述碎片离子透过所述碰撞室所需的一定时间后,使所述分析交流电压和所述分析直流电压的至少一者的扫描开始。
12.根据权利要求9所述的质量分析装置,其特征在于,
所述质量分析部具有为了根据质荷比对所述碎片离子进行质量分离而被施加分析交流电压和分析直流电压的分析用多极电极,
所述控制部使所述碰撞交流电压的扫描与所述分析交流电压的扫描同步并以相同电位进行。
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