[发明专利]等离子体处理用设备和等离子体处理用方法

权利要求书

1.一种等离子体处理用设备，其包括：

处理容器，其设置有用于载置基体的载置台；

第一气体供给单元，其被构造成将第一气体供给至所述处理容器；

第一等离子体产生单元，其被构造成将所述第一气体的至少一部分转化成第一等离子体；

第二气体供给单元，其被构造成将第二气体供给至所述处理容器；和

第二等离子体产生单元，其被构造成将所述第二气体的至少一部分转化成第二等离子体；

其中，所述第二气体的入口距离所述载置台的高度低于所述第一气体的入口距离所述载置台的高度。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第二等离子体产生单元在所述第二气体进入所述处理容器之后立即将所述第二气体的至少一部分转化成所述第二等离子体。

3.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第二气体的入口位于所述处理容器的侧壁。

4.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第一等离子体产生单元和所述第二等离子体产生单元彼此分开。

5.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第一等离子体产生单元包括被构造成产生第一微波的第一机构，所述第二等离子体产生单元包括被构造成产生第二微波的第二机构，并且所述第一微波的频率和所述第二微波的频率彼此不同。

6.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备进一步包括用于调节所述第一气体和所述第二气体的量比的控制器。

7.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第一气体包含溴化氢。

8.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第二等离子体产生单元包括：

被构造成产生微波的机构；和

被构造成改变所述微波的偏振特性的构件。

9.根据权利要求8所述的设备，其特征在于，所述构件包括：

第一介电窗和第二介电窗；以及

设置有多个缝隙的导体，所述导体介于所述第一介电窗和所述第二介电窗之间。

10.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第二等离子体产生单元包括被构造成产生电感耦合等离子体的线圈。

11.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第二气体包含具有不同离解常数的至少两种气体。

12.一种等离子体处理用设备，其包括：

处理容器，其设置有用于载置基体的载置台；

第一气体供给单元，其被构造成将第一气体供给至所述处理容器，所述第一气体的入口位于所述处理容器的上侧；

第一等离子体产生单元，其被构造成将所述第一气体的至少一部分转化成第一等离子体；

第二气体供给单元，其被构造成将第二气体供给至所述处理容器，所述第二气体的入口位于所述处理容器的侧壁；和

第二等离子体产生单元，其被构造成将所述第二气体的至少一部分转化成第二等离子体。

13.一种等离子体处理用方法，所述处理在处理容器内进行，所述处理容器设置有用于载置基体的载置台，所述方法包括如下步骤：

将第一气体从第一入口供给至所述处理容器；

将所述第一气体的至少一部分转化成第一等离子体；

将第二气体从第二入口供给至所述处理容器；和

将所述第二气体的至少一部分转化成第二等离子体，

其中，所述第二入口距离所述载置台的高度低于所述第一入口距离所述载置台的高度。

14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，在所述第二气体进入所述处理容器之后立即将所述第二气体的至少一部分转化成所述第二等离子体。

15.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述第二入口位于所述处理容器的侧壁。

16.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述第一气体包含溴化氢。

17.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述第二气体由等离子体产生单元进行转化，所述单元包括：

被构造成产生微波的机构；和

被构造成改变所述微波的偏振特性的构件。