[发明专利]微波回转窑

说明书

发明内容

在一个实施例中，本公开涉及包括微波源的装置，微波源发射约300Mhz至约300Ghz的频率范围内的微波能量。装置中的微波腔包括固定输入部分、固定输出部分以及位于输入部分和输出部分之间的回转处理部分。波导从微波源接收微波能量并将微波能量传送到输入部分和输出部分中的至少一个。

在另一个实施例中，本公开涉及一种方法，该方法包括：连续地将样品材料引入微波腔体的处理部分，其中处理部分包含辅助耦合件，将微波能量引入腔体，其中所述辅助耦合件吸收微波能量并将样品材料加热至目标温度；回转处理部分；以及连续地从处理部分取出经处理的样品材料。

在又一个实施例中，一种装置包括：微波源，其中该源发射频率范围为约300Mhz至约300Ghz的微波能量；微波腔体，该微波腔体包括固定输入部分、固定输出部分以及位于输入部分和输出部分之间的回转处理部分；波导，该波导从源传输微波能量并将微波能量引入输入部分和输出部分中的至少一个，其中固定输入部分、固定输出部分和回转处理部分包括匹配凸缘组件，其中匹配凸缘组件包括导电层和微波吸收层中的至少一个。

以下用附图和描述阐述本发明的一个或多个实施例的细节。根据说明书、附图以及从权利要求书，本发明的其它特征、目的和优点将显而易见。

附图说明

图1是回转微波窑装置的实施例的剖视图。

图2是图1的回转微波窑的回转处理部分的实施例的剖视图。

图3是多区回转微波窑的实施例的剖视图。

图4是图3的多区微波窑的一部分中的可滑动扼流器的实施例的剖视图。

图5是包括滑动扼流器圆筒的回转微波窑装置的替代实施例的示意平面图。

图6是实例2中使用的回转微波窑装置的示意剖视图。

图7是包括如实例1所描述的微波扼流器的微波单元的俯视图。

图8是图7的微波单元的侧视图，包括扼流器中的氧化铝管。

图9是图6的回转微波窑装置的截面的端视图。

附图中相同的标记表示相同的部件。

具体实施方式

在一个实施例中，本公开涉及具有微波腔体的微波（MW）回转窑装置，其中包括固定输入部分、固定输出部分以及位于输入和输出部分之间的回转处理部分。样品被引入到样品输入部后，微波能量被引入到固定输入部分和固定输出部分中的至少一个，以在回转处理部分中处理样品。在一个实施例中，回转处理部分包括辅助耦合源，这种“混合型”系统可以使非微波吸收或弱微波吸收材料样品的连续处理成为可能。装置可包括单个回转处理部分或多个彼此串联的回转处理部分。

参见图1，装置10包括微波腔体12，该微波腔体12具有固定（非回转）输入部分14、固定（非回转）输出部分16以及回转处理部分18。微波腔体12的纵向轴线可以平行于支承座13，或者可任选地通过适当的支承件15倾斜角度以便于样品移动通过腔体12。处理选定样品的回转处理部分18可以为任何所需的形状，但通常大致呈圆筒状并具有大致圆形的横截面形状。

回转处理部分18可以通过任何合适的装置旋转，其可以包括诸如电动机或内燃机之类的动力源70以及将动力源70连接到回转处理部分18的驱动系统72，其可以包括齿轮、链轮、V型皮带、链条或类似物的布置。

固定输入部分14和固定输出部分16通过一对支承结构60、64附接于回转处理部分18。支承结构60包括附接于固定输入部分14的第一支承件61。第一支承件61通过合适的紧固件附接于第二支承件62，在本实施例中为螺栓63的布置。第二支承件62包括轴承81，它可以是例如球轴承座圈，其承接回转处理部分18的第一端中适当尺寸的沟槽或轨道，以允许回转处理部分18的自由旋转。如果期望的话，第一支承件61可以任选地包括轴承（图1中未示出）。

第一和第二支承件61、62之间的距离被任选地选择成防止微波能量从第一和第二支承件61、62之间的空间85泄漏。然而，作为固定输入部分14和回转腔体18之间的距离，空间85应小于由微波源20发射的能量的波长的四分之一。任选地，在支承件61、62之间的距离可以小于由微波源20发射的能量的波长的四分之一。