[发明专利]感光性负型树脂组合物

说明书

技术领域

本发明涉及一种感光性负型树脂组合物，特别涉及一种适合于通过光刻法形成微细结构体的感光性负型树脂组合物。

背景技术

作为微细加工技术，已知对负型感光性树脂进行曝光和显影从而形成图案和结构体的光刻技术。该技术应用广泛，例如，半导体集成电路的生产、半导体曝光用掩模的生产和各种MEMS的生产。作为MEMS生产的应用实例，该应用在各种小型传感器、微探针、薄膜磁头、喷墨记录头等中是先进的。使用i线作为光源的步进器广泛用作进行曝光的装置。在该技术领域，近年来需要生产具有更复杂且更微小结构的结构体，因而要求研发一种能形成从光源通过光掩模的光表现出高精度的微细结构体的负型感光性树脂。

作为负型感光性树脂的实例，PTL1公开了一种含有多官能环氧树脂和阳离子聚合引发剂的感光性树脂组合物。

作为应用于MEMS生产的示例性喷墨头，PTL2公开了一种含有喷墨头用喷嘴的装置，所述装置通过使借助于加热发热电阻器形成的气泡与空气连通而喷出墨滴。

引用文献

专利文献

PTL1：日本专利申请特开2008-256980号公报

PTL2：日本专利申请特开H04-10940号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而，上述组合物有些情形下在以下几点具有不足的性质。作为实例，当复杂形状如液体喷射装置的具有锥形的喷出口使用i线作为光源由负型感光性树脂形成时，喷出口的锥角可因芯片或晶圆而不同，从而在有些情形下不能获得所希望的再现性。

本发明鉴于上述问题而进行，并且其目的是提供一种感光性负型树脂组合物，当向所述感光性负型树脂组合物应用光刻法时，所述组合物能给出极少的偏差且优异的三维形状的再现性。

用于解决问题的方案

为了解决上述问题，本发明提供一种感光性负型树脂组合物，其包括

(a)含环氧基化合物，

(b)含有由(b1)所表示的阳离子部结构和由(b2)所表示的阴离子部结构的第一鎓盐，和

(c)含有由(c1)所表示的阳离子部结构和由(c2)所表示的阴离子部结构的第二鎓盐，

其中，R₁至R₃彼此独立地为可被取代的且具有1至30个碳原子的有机基团，条件是R₁至R₃的全部构成原子中包含至少两个氧原子，X选自碳原子、氮原子、磷原子、硼原子和锑原子，Y选自–S(=O)₂-、氟化亚烷基、-OCF₂-、-C(=O)-CF₂-、-O-C(=O)-CF₂-、–C(=O)-O-CF₂-和单键，R₄为可被氟原子取代的且具有1至30个碳原子的烃基，且m和n为：当X为碳原子时，m+n为3且n为选自0、1和2的整数，当X为氮原子时，m+n为2且n为选自0和1的整数，当X为磷或锑原子时，m+n为6且n为选自0至6的整数，或当X为硼原子时，m+n为4且n为选自0至3的整数，

[其中R₅至R₇彼此独立地为可被取代的且具有1至15个碳原子的有机基团，条件是，R₅至R₇的全部构成原子中包含至多一个氧原子，Z选自碳原子和硫原子，当Z为碳原子时，k为1，当Z为硫原子时，k为2，和R₈为可含有杂原子且具有1至20个碳原子的烃基。]

发明的效果

当使用根据本发明的感光性负型树脂组合物时，当向其应用光刻法时，可稳定形成能提供偏差极少且三维形状的再现性优异的微细结构体。特别是当向其应用使用i线的光刻法时，根据本发明的感光性负型树脂组合物的再现性优异。

参照附图，由以下示例性实施方案的描述将使本发明的进一步特征变得显而易见。

附图说明

[图1]图1是说明示例性液体喷出头的构造的典型透视图。

[图2]图2示意性说明具有能量产生元件的基板。