[发明专利]在自旋转移力矩存储器设备中的写电流的降低有效

专利信息
申请号: 201180060785.6 申请日: 2011-12-02
公开(公告)号: CN103262241A 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: B·S·多伊尔;D·L·肯克;C·C·郭;D·E·尼科诺夫;R·S·周 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/8247
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 陈松涛;王英
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 自旋 转移 力矩 存储器 设备 中的 电流 降低
【权利要求书】:

1.一种磁性隧道结,包括:

自由磁层;

固定磁层;以及

隧道势垒层,设置在所述自由磁层与所述固定磁层之间;

其中,所述固定磁层具有比所述自由磁层的表面面积小的表面面积。

2.根据权利要求1所述的磁性隧道结,其中,所述固定磁层的形状被限定为使所述自由磁层内的电流密度集中。

3.根据权利要求1所述的磁性隧道结,其中,所述固定磁层被安置为使所述自由磁层内的电流密度集中。

4.根据权利要求1所述的磁性隧道结,其中,所述自由磁层基本上是椭圆形的并具有长度和宽度,并且其中,所述固定磁层作为邻接所述自由磁层的带状条沿着所述自由磁层的长度延伸。

5.根据权利要求1所述的磁性隧道结,其中,所述自由磁层基本上是椭圆形的并具有长度和宽度,并且其中,所述固定磁层作为邻接所述自由磁层的带状条沿着所述自由磁层的宽度延伸。

6.根据权利要求1所述的磁性隧道结,其中,所述自由磁层基本上是椭圆形的并具有外围,并且其中,所述固定磁层作为围绕所述自由磁层的外围的环邻接所述自由磁层。

7.根据权利要求1所述的磁性隧道结,其中,所述自由磁层基本上是椭圆形的并具有外围,并且其中,所述固定磁层基本上是圆形的。

8.一种自旋转移力矩元件,包括:

自由磁层电极;

自由磁层,邻接所述自由磁层电极;

固定磁层;

隧道势垒层,设置在所述自由磁层与所述固定磁层之间;以及

固定磁层电极,邻接所述固定磁层;

其中,所述固定磁层和所述固定磁层电极具有类似的表面面积,所述类似的表面面积比所述自由磁层的表面面积小。

9.根据权利要求8所述的自旋转移力矩元件,其中,所述固定磁层和所述固定磁层电极的形状被限定为使所述自由磁层内的电流密度集中。

10.根据权利要求8所述的自旋转移力矩元件,其中,所述固定磁层和所述固定磁层电极被安置为使所述自由磁层内的电流密度集中。

11.根据权利要求8所述的自旋转移力矩元件,其中,所述自由磁层基本上是椭圆形的并具有长度和宽度,并且其中,所述自由磁层和所述自由磁层电极作为邻接所述自由磁层的带状条沿着所述自由磁层的长度延伸。

12.根据权利要求8所述的自旋转移力矩元件,其中,所述自由磁层基本上是椭圆形的并具有长度和宽度,并且其中,所述自由磁层和所述自由磁层电极作为邻接所述自由磁层的带状条沿着所述自由磁层的宽度延伸。

13.根据权利要求8所述的自旋转移力矩元件,其中,所述自由磁层基本上是椭圆形的并具有外围,并且其中,所述固定磁层和所述固定磁层电极作为围绕所述自由磁层的外围的环邻接所述自由磁层。

14.根据权利要求8所述的自旋转移力矩元件,其中,所述自由磁层基本上是椭圆形的并具有外围,并且其中,所述固定磁层和所述固定磁层电极基本上是圆形的。

15.一种非易失性存储器设备,包括:

固定磁层电极,电连接至位线;

固定磁层,邻接所述固定磁层电极;

自由磁层电极,邻接自由磁层,其中所述自由磁层和所述自由磁层电极具有比所述自由磁层的表面面积小的表面面积;

隧道势垒层,设置在所述固定磁层与所述自由磁层之间;以及

晶体管,电连接至所述下电极、源极线以及字线。

16.根据权利要求15所述的非易失性存储器设备,其中,所述固定磁层和所述固定磁层电极的形状被限定为使所述自由磁层内的电流密度集中。

17.根据权利要求15所述的非易失性存储器设备,其中,所述固定磁层和所述固定磁层电极被安置为使所述自由磁层内的电流密度集中。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英特尔公司,未经英特尔公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180060785.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top