[发明专利]蒸镀膜的形成方法和显示装置的制造方法

权利要求书

1.一种蒸镀膜的形成方法，其是在基板上形成蒸镀膜的蒸镀膜的形成方法，其特征在于，具有：

在所述基板的规定区域形成能够剥离的遮蔽膜的工序；

在所述基板隔着所述遮蔽膜形成蒸镀膜的工序；和

通过剥离所述遮蔽膜将所述蒸镀膜形成为规定形状的工序。

2.如权利要求1所述的蒸镀膜的形成方法，其特征在于：

所述遮蔽膜通过多个膜部件以允许重叠的方式排列而构成。

3.如权利要求1或2所述的蒸镀膜的形成方法，其特征在于：

所述遮蔽膜包括具有粘接性或粘着性的面。

4.如权利要求1或2所述的蒸镀膜的形成方法，其特征在于：

所述遮蔽膜由不包括具有粘接性的面的树脂薄膜形成，通过热熔接粘接于所述基板。

5.如权利要求4所述的蒸镀膜的形成方法，其特征在于：

所述遮蔽膜通过热处理从所述基板剥离。

6.如权利要求1至5中任一项所述的蒸镀膜的形成方法，其特征在于：

所述遮蔽膜在所述基板以覆盖与外部电路连接的端子部区域的方式形成。

7.如权利要求1至6中任一项所述的蒸镀膜的形成方法，其特征在于：

所述蒸镀膜为相互具有规定间隔的多个直线状，沿规定方向形成。

8.如权利要求1至6中任一项所述的蒸镀膜的形成方法，其特征在于：

在将所述蒸镀膜形成于所述基板上的工序之前、该工序之后或该工序的前后，包括以所述遮蔽膜为掩模形成与所述蒸镀膜不同的第一膜的工序，

所述遮蔽膜的剥离在形成所述第一膜的工序之后进行。

9.如权利要求1至6中任一项所述的蒸镀膜的形成方法，其特征在于：

在将所述蒸镀膜形成于所述基板的工序之前、该工序之后或该工序的前后，包括使用具有贯通孔的掩模形成与所述蒸镀膜不同的第二膜的工序，

所述遮蔽膜的剥离在形成所述第二膜的工序之后进行。

10.如权利要求1至9中任一项所述的蒸镀膜的形成方法，其特征在于：

在将所述蒸镀膜形成于所述基板的工序中，

掩模单元中的蒸镀掩模与所述基板被维持为固定距离，所述掩模单元包括：具有贯通孔且面积比所述基板小的所述蒸镀掩模；和将从蒸镀材料供给源供给的蒸镀颗粒隔着所述蒸镀掩模向所述基板的形成有所述遮蔽膜的面射出的射出口，并且所述蒸镀掩模与所述射出口的相对位置被固定，

所述掩模单元和所述基板中的至少任意一个相对于另一个进行扫描，从而形成所述蒸镀膜。

11.如权利要求10所述的蒸镀膜的形成方法，其特征在于：

所述掩模单元中的所述蒸镀掩模与所述基板紧贴。

12.一种显示装置的制造方法，其具有：在基板上形成多个有源元件的工序；形成第一电极的工序，所述第一电极与所述各个有源元件电连接且在所述基板上的显示区域呈矩阵状形成；在所述第一电极上形成至少包含发光层的有机层的工序；和至少在所述有机层上形成具有与所述第一电极相反的极性的第二电极的工序，该显示装置的制造方法的特征在于：

在形成所述有机层中的至少所述发光层的工序中，

以不覆盖所述显示区域且覆盖作为所述显示区域的周边区域的非显示区域的至少一部分的方式形成能够剥离的遮蔽膜，

在所述基板上，隔着所述遮蔽膜，沿所述呈矩阵状形成的第一电极的行方向或列方向形成相互具有规定间隔的多个直线状的至少所述发光层，

在形成所述有机层中的至少所述发光层的工序之后或形成所述第二电极的工序之后，剥离所述遮蔽膜，由此将至少所述发光层形成为规定形状。

13.如权利要求12的显示装置的制造方法，其特征在于：

在形成所述至少包含发光层的有机层的工序中，包含以所述遮蔽膜为掩模，形成所述有机层中的所述发光层以外的层或金属层或无机层的工序。

14.如权利要求12或13所述的显示装置的制造方法，其特征在于：

在形成所述至少包含发光层的有机层的工序中，包含使用具有贯通孔的掩模，形成所述有机层中的所述发光层以外的层或金属层或无机层的工序。