[发明专利]成膜装置

权利要求书

1.一种成膜装置，所述成膜装置具备成膜室，在所述成膜室，使成膜材料经由掩模附着于保持为直立状态的基板来进行成膜，

所述成膜装置的特征在于，

在所述成膜室设有：

校准驱动机构，其进行所述掩模与所述基板的对位，使得所述掩模相对于所述基板处于适当位置；

蒸发源，其使所述成膜材料附着于能够沿所述基板或所述掩模的搬送方向移动的所述基板；以及

掩模搬送机构和基板搬送机构，它们分别将所述掩模和所述基板以直立状态搬送至面对所述蒸发源的多个成膜位置，

所述成膜装置构成为，能够一边在一个所述成膜位置利用所述蒸发源进行成膜，一边在另一个所述成膜位置利用所述校准驱动机构进行所述掩模与所述基板的对位。

2.一种成膜装置，所述成膜装置具备成膜室，在所述成膜室，使成膜材料经由掩模附着于保持为直立状态的基板来进行成膜，

所述成膜装置的特征在于，

在所述成膜室设有：

校准驱动机构，其相对于所述基板调整移动将所述掩模安装成直立状态的校准框，从而进行所述掩模与所述基板的对位，使得所述掩模相对于所述基板位于适当位置；

蒸发源，其使所述成膜材料附着于所述基板；

蒸发源引导机构，其引导该蒸发源沿着所述基板或所述掩模的搬送方向往复移动；以及

掩模搬送机构和基板搬送机构，它们分别将所述掩模和所述基板以直立状态搬送至面对所述蒸发源的多个成膜位置，

在所述多个成膜位置分别设置有所述校准驱动机构，

所述成膜装置构成为，能够一边在一个所述成膜位置利用所述蒸发源进行成膜，一边在另一个所述成膜位置利用所述校准驱动机构进行所述掩模与所述基板的对位。

3.根据权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，

在所述蒸发源引导机构与所述成膜室的内壁面之间设有吸收成膜室的变形的变形吸收机构。

4.根据权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，

所述成膜装置具备蒸发源冷却机构，所述蒸发源冷却机构防止从所述蒸发源向所述基板散热。

5.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，

所述成膜装置具备蒸发源冷却机构，所述蒸发源冷却机构防止从所述蒸发源向所述基板散热。

6.根据权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，

在所述掩模的靠所述蒸发源侧设有对该掩模进行冷却的掩模冷却机构，并且，在所述基板的与设置掩模的表面相反的一侧的背面侧，设有对该基板进行冷却的基板冷却机构。

7.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，

在所述掩模的靠所述蒸发源侧设有对该掩模进行冷却的掩模冷却机构，并且，在所述基板的与设置掩模的表面相反的一侧的背面侧，设有对该基板进行冷却的基板冷却机构。

8.根据权利要求4所述的成膜装置，其特征在于，

在所述掩模的靠所述蒸发源侧设有对该掩模进行冷却的掩模冷却机构，并且，在所述基板的与设置掩模的表面相反的一侧的背面侧，设有对该基板进行冷却的基板冷却机构。

9.根据权利要求5所述的成膜装置，其特征在于，

在所述掩模的靠所述蒸发源侧设有对该掩模进行冷却的掩模冷却机构，并且，在所述基板的与设置掩模的表面相反的一侧的背面侧，设有对该基板进行冷却的基板冷却机构。

10.根据权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，

在所述成膜室设有坩埚更换机构，所述坩埚更换机构对所述蒸发源的收纳所述成膜材料的坩埚进行更换。

11.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，

在所述成膜室设有坩埚更换机构，所述坩埚更换机构对所述蒸发源的收纳所述成膜材料的坩埚进行更换。

12.根据权利要求4所述的成膜装置，其特征在于，

在所述成膜室设有坩埚更换机构，所述坩埚更换机构对所述蒸发源的收纳所述成膜材料的坩埚进行更换。

13.根据权利要求5所述的成膜装置，其特征在于，

在所述成膜室设有坩埚更换机构，所述坩埚更换机构对所述蒸发源的收纳所述成膜材料的坩埚进行更换。