[发明专利]被镀层形成用组成物以及具有金属膜的积层体的制造方法

权利要求书

1.一种被镀层形成用组成物，其包含式(1)所示的化合物、及具有聚合性基的聚合物：

[化1]

式(1)

(式(1)中，R¹⁰表示氢原子、金属阳离子、或四级铵阳离子；L¹⁰表示单键、或二价有机基；R¹¹～R¹³分别独立表示氢原子、或经取代或未经取代的烷基；n表示1或2)。

2.根据权利要求1所述的被镀层形成用组成物，其中所述化合物的质量(质量A)、与所述化合物的质量(质量A)及所述聚合物的质量(质量B)的合计值(质量A+质量B)的质量比{质量A/(质量A+质量B)}为0.01～0.25。

3.根据权利要求1或2所述的被镀层形成用组成物，其中所述化合物的质量(质量A)、与所述化合物的质量(质量A)及所述聚合物的质量(质量B)的合计值(质量A+质量B)的质量比{质量A/(质量A+质量B)}为0.05～0.20。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的被镀层形成用组成物，其中还包含多官能单体。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的被镀层形成用组成物，其中还包含聚合起始剂。

6.一种具有金属膜的积层体的制造方法，其包括：层形成步骤，使如权利要求1-5中任一项所述的被镀层形成用组成物接触于基板后，对所述被镀层形成用组成物供给能量而于所述基板上形成被镀层；

触媒供给步骤，对所述被镀层供给无电解镀敷触媒或所述镀敷触媒的前驱物；

镀敷步骤，对所述镀敷触媒或所述镀敷触媒的前驱物进行无电解镀敷，而于所述被镀层上形成金属膜。

7.根据权利要求6所述的具有金属膜的积层体的制造方法，其中所述基板表面的水接触角为80°以下。

8.一种被镀层，其是使用如权利要求1-5中任一项所述的被镀层形成用组成物而得。