[发明专利]带有透明电极的基板及其制造方法以及触摸面板

权利要求书

1.一种带有透明电极的基板，在透明膜基板的至少一面，依次具有第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层、及被图案化的透明电极层；

所述第一电介质层是以SiO_x为主要成分且膜厚为1nm～25nm的硅氧化物层，其中x≥1.5；

所述第二电介质层是以选自Nb、Ta、Ti、Zr、Zn、及Hf中的1种以上的金属的氧化物为主要成分且膜厚为5nm以上且小于10nm的金属氧化物层；

所述第三电介质层是以SiO_y为主要成分且膜厚为35nm～55nm的硅氧化物层，其中y＞x；

所述透明电极层是以铟-锡复合氧化物为主要成分且膜厚为20nm～35nm的导电性金属氧化物层；

所述第一电介质层的折射率n₁、所述第二电介质层的折射率n₂、及所述第三电介质层的折射率n₃满足n₃＜n₁＜n₂的关系；

所述透明电极层的折射率n₄为1.88以下、电阻率为5.0×10^-4Ω·cm以下。

2.如权利要求1所述的带有透明电极的基板，其中，所述透明电极层中，相对于氧化铟与氧化锡的总计100重量份含有4重量份～14重量份的氧化锡。

3.如权利要求1或2所述的带有透明电极的基板，其中，所述第三电介质层的透明电极层侧界面的算术平均粗糙度是1nm以下。

4.如权利要求1～3中任一项所述的带有透明电极的基板，其中，所述第二电介质层是以Nb₂O₅为主要成分的金属氧化物层。

5.一种带有透明电极的基板的制造方法，是制造权利要求1～4中任一项所述的带有透明电极的基板的方法；

在透明膜基板上，依次形成第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层及透明电极层；

所述第三电介质层是在小于0.4Pa的压力下利用溅射法进行制膜而成的。

6.如权利要求5所述的带有透明电极的基板的制造方法，其中，所述第一电介质层是在小于0.4Pa的压力下利用溅射法进行制膜而成的。

7.一种静电电容式触摸面板，其具备权利要求1～4中任一项所述的带有透明电极的基板。