[发明专利]全自动胶膜涂覆、显影装置

权利要求书

1.一种全自动胶膜涂覆、显影装置，其特征在于：包括机器人(5)、盒站(11)、独立对中单元(10)及晶片处理单元，其中盒站(11)位于独立对中单元(10)的上方，所述机器人(5)位于装置的中心，所述盒站(11)及晶片处理单元安装在机器人(5)的周围，所述机器人(5)通过机械手将晶片送到周围的各晶片处理单元上。

2.按权利要求1所述的全自动胶膜涂覆、显影装置，其特征在于：所述晶片处理单元设有1～7个工位，包括热处理单元和离心单元，所述热处理单元和离心单元可互换。

3.按权利要求2所述的全自动胶膜涂覆、显影装置，其特征在于：所述热处理单元为四层结构，该结构的每一层上放置高温冷热盘单元、低温热盘、表面曾粘单元或独立对中机构中的一种。

4.按权利要求2所述的全自动胶膜涂覆、显影装置，其特征在于：所述离心单元包括真空吸盘(20)、真空吸盘升降气缸(18)、中空轴电机(19)、胶杯(21)、胶臂(22)、胶臂升降气缸(24)、胶臂旋转马达(25)及药业控制阀(26)，其中胶杯(21)位于真空吸盘(20)的下方，所述真空吸盘(20)分别与真空吸盘升降气缸(18)及中空轴电机(19)连接，以实现真空吸盘(20)的升降或旋转完成涂胶显影；所述胶臂(22)位于真空吸盘(20)的上方、并分别与胶臂升降气缸(24)及胶臂旋转马达(25)连接，以实现胶臂(22)的升降或旋转，所述胶臂(22)通过药业控制阀(26)控制光刻胶。

5.按权利要求4所述的全自动胶膜涂覆、显影装置，其特征在于：所述离心单元的上方设有保湿盒(23)，完成工艺后的胶臂(22)上的胶嘴通过胶臂旋转马达(25)的驱动放入所述保湿盒(23)中；所述离心单元的下方设有废液排放口(17)，该废液排放口(17)与胶杯(21)连通，胶杯(21)收集的废液通过所述废液排放口(17)排出。

6.按权利要求1所述的全自动胶膜涂覆、显影装置，其特征在于：所述盒站(11)包括片盒(30)、片盒限位块(31)及盒站底板(29)，其中片盒(30)位于盒站底板(29)上、并通过片盒限位块(31)定位。

7.按权利要求1所述的全自动胶膜涂覆、显影装置，其特征在于：所述独立对中单元(10)包括对中气缸(27)、对中承片台(28)、对中夹具(32)及对中承片台升降气缸(33)，其中对中承片台(28)下方连接对中承片台升降气缸(33)，所述对中夹具(32)位于对中承片台(28)的上方、并与对中气缸(27)连接。

8.按权利要求1所述的全自动胶膜涂覆、显影装置，其特征在于：所述装置同时兼容2-6英寸圆形标准晶片。

9.按权利要求1所述的全自动胶膜涂覆、显影装置，其特征在于：所述装置预留有Interface接口，该接口与工厂自动化系统相连接。

10.按权利要求1所述的全自动胶膜涂覆、显影装置，其特征在于：所述装置连接实现全天候不间断供液的独立化学品供应系统。