[发明专利]靶及具备该靶的成膜装置无效

专利信息
申请号: 201210008545.8 申请日: 2012-01-12
公开(公告)号: CN102586745A 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: 岩田宽;金子博 申请(专利权)人: 住友重机械工业株式会社
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/06;B22F3/10
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 周欣
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 具备 装置
【说明书】:

本申请基于2011年1月13日申请的日本专利申请第2011-5201号主张优先权。在本说明书中援引该申请的全部内容。 

技术领域

本发明涉及靶及具备该靶的成膜装置。 

背景技术

作为用于成膜装置的靶,已知有如专利文献1所示的例如通过铟等的粘结剂固定于保持部件(靶电极)的靶(以下示为“结合靶”)。然而,在这种结合靶中,若要更换消耗的靶,粘结于靶的保持部件也需要一同更换。因此,存在进行其更换时需要时间及成本之类的问题。 

作为解决这种问题的技术,公开有涉及如专利文献2所示的载置于保持部件的上表面且通过夹具固定于保持部件(靶托)的靶(以下示为“未结合靶”)的技术。 

现有技术文献 

专利文献 

专利文献1:日本特开平8-291382号公报 

专利文献2:日本特开2004-193083号公报 

发明内容

发明所要解决的问题 

然而,如上述所示的未结合靶中,由于靶通过夹具被按压于保持部件上,因此被夹具按压的部分需要具有能够承受该按压的强度。但是,一般耐破裂性较弱的烧结体靶很难确保所述强度。因此,烧结体靶采用通过由铟等的粘结剂固定于保持部件的结合靶,未能消除靶的更换需要时间及成本之类的问题。 

本发明的目的在于提供即使为烧结体靶也能够降低运转成本的靶及具备该靶的成膜装置。 

用于解决问题的手段 

为了解决上述课题,本发明的靶通过夹具而被固定于保持部件上,其特征在于,该靶为包含金属粉体和熔点高于金属的熔点的金属氧化物粉体的混合物在由t0<T<t1(其中,在上述公式中,t0为金属的熔点,t1为金属氧化物的熔点或升华点)表示的烧结温度T下烧结而成的低氧化物烧结体。 

这种靶与不含金属作为构成成分的烧结体靶相比耐破裂性较高,因此能够降低因夹具的按压而损坏靶之虞。其结果,即使为烧结体靶,更换靶时,也无需更换包含保持部件的整个靶装置而能够仅更换靶,而能够降低运转成本。 

并且,金属优选为Zn、Sn、Pb、Bi、In、Al及Ga中的任一种。由此,在上述烧结温度T的条件下易于烧结金属粉体与金属氧化物粉体的混合物。 

并且,优选该烧结体中,与接触于保持部件的接触面平行的面内方向上的外侧端部和中央部相比,金属相对于金属氧化物的成分比例较高。由此,能够形成靶的面内方向上的外侧端部的耐破裂性高于中央部的靶。其结果,能够提高被夹具按压的部分的耐破裂性,因此能够进一步降低通过夹具固定靶时损坏靶之虞。 

并且,优选烧结体的体积电阻率为0.05Ω·m以下。由此,实施溅射时,能够将靶的导电性确保为可实施基于直流溅射法或交流溅射法的溅射的程度。其结果,能够确保稳定的放电。 

并且,优选烧结体的烧结相对密度为90%以上。“烧结相对密度”是指与内部没有空隙的靶相比的容积的比率。一般若空隙量较多,则靶表面的凹凸变得明显而成为溅射时发生粒子或电弧的原因。这种靶装置中,由于能够降低空隙量,因此能够防止溅射时发生粒子或电弧,而能够生成高品质的薄膜。 

并且,构成金属氧化物的金属元素可为Zn。由此能够易于形成耐破裂性优异的陶瓷靶。 

本发明的成膜装置通过将靶中所含的成膜材料附着于基板来进行成膜,其特征在于,具备:真空容器、在真空容器内保持上述靶的保持部件及固定靶和保持部件的夹具。 

这种成膜装置中,靶与不含单质金属作为构成成分的烧结体靶相比确保耐破裂性,因此能够通过夹具固定于保持部件。其结果,即使为烧结体靶,更换靶时,也无需更换包含保持部件的整个靶装置而能够仅更换靶,并能够降低运转成本。 

并且,优选保持部件与靶之间配置有与保持部件及靶的相互对置的面接触的热传导性薄膜部件。其中,保持部件有时使用接触靶来冷却的冷却板。此时,即使在靶及保持部件相互接触的表面上有凹凸时,由于导电性薄膜部件填满形成于相互对置的面之间的空隙,因此也可充分确保靶与保持部件的接触面积。其结果,能够得到靶与保持部件之间的良好的热传导性。 

发明效果 

根据本发明的靶及具备该靶的成膜装置,即使为烧结体靶,也能够降低运转成本。 

附图说明

图1是表示包含本实施方式所涉及的靶的成膜装置的结构的侧视截面图。 

图2是表示图1的靶的侧视截面图。 

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