[发明专利]蚀刻装置

权利要求书

1.一种蚀刻装置，其包含有一蚀刻组件、一输送组件及一载具组件，其中：

该蚀刻组件设有一蚀刻腔体、一上盖板及一升降装置，该上盖板可翻转地设于该蚀刻腔体顶面且设有一电极导入装置、两气孔板及一遮板，该电极导入装置固设于该上盖板顶面且朝内设有一电极，两气孔板间隔地设于该上盖板底面，该遮板间隔地设于该上盖板底面且贯穿设有与该两气孔板相对应的穿孔，于两穿孔间贯穿一供该电极伸入该遮板的开孔，该升降装置固设于该蚀刻腔体底面且朝上设有一伸入该蚀刻腔体的升降杆；

该输送组件设于该蚀刻组件内且于该蚀刻腔体内间隔设置有多个具有滚轮的转动轴；以及

该载具组件设于该输送组件上而可移动地设于该蚀刻腔体内并设有数个载盘，各载盘与该输送组件的滚轮相贴靠且于顶面设有一极板，该极板贯穿设有两间隔设置并分别与该遮板两穿孔相对应的承载孔；以及

该蚀刻装置另设有一进料组件、一出料组件及一阀门组件，其中该进料组件设有一前、后端呈开口状且与该蚀刻腔体前端相结合的进料腔体，该出料组件设有一与该蚀刻腔体异于该进料腔体一端相结合的出料腔体，而该阀门组件设于该进料组件、该蚀刻组件及该出料组件之间且设有数个阀门装置，各阀门装置分别该设于各腔体之间，该输送组件于该进料组件及该出料组件的各腔体内间隔设置有多个具有滚轮的转动轴，该载具组件设于该输送组件上而可移动地设于各腔体之间。

2.如权利要求1所述的蚀刻装置，其中该进料腔体于内部两侧各设有一第一导轨，该蚀刻腔体于内部两侧各设有一与该进料腔体第一导轨直线相对的第二导轨，该升降装置的升降杆伸设于该蚀刻腔体内且介于两第二导轨间，而该出料腔体于内部两侧各设有一与该进料腔体第一导轨及该蚀刻腔体第二导轨直线相对的第三导轨，该输送组件的各滚动轴设于各腔体的两导轨内侧。

3.如权利要求2所述的蚀刻装置，其中该上盖板于该遮板周围的底面设有多个定位杆，各定位杆在异于该上盖板的底端设有一套设盖，而该载具组件的各载盘于该极板周围的顶面设有数个定位凸粒，当该载盘移动至该蚀刻腔体内时，各定位凸粒与该蚀刻组件各定位杆的套设盖直线相对。

4.如权利要求3所述的蚀刻装置，其中该上盖板于两相对侧边分别设有一与该蚀刻腔体顶面相固设结合的翻转压缸轴，使该上盖板可相对该蚀刻腔体翻转，且该上盖板于顶面固设有一与该电极导入装置相连接的输出功率单元。

5.如权利要求4所述的蚀刻装置，其中该两气孔板分别于该上盖板顶面设有一用以输送气体的输送管，使气体可经由输送管及气孔板而进入该蚀刻腔体内。

6.如权利要求5所述的蚀刻装置，其中该遮板设有数个与该上盖板相固设结合的固定杆，使该遮板间隔地设于该上盖板的底面。

7.如权利要求6所述的蚀刻装置，其中该蚀刻组件另设有一与该蚀刻腔体相结合的高真空泵浦，使该蚀刻腔体内部维持于一高真空的状态。

8.如权利要求7所述的蚀刻装置，其中各阀门装置设有一阀门及一阀门气压缸，通过阀门气压缸的作动，使两相邻腔体间呈现相通或封闭的状态，而该输送组件各转动轴的一端套设有一传动轮，该传动轮可为一链轮或一皮带轮。

9.如权利要求8所述的蚀刻装置，其中该蚀刻装置在异于该蚀刻腔体的出料腔体一侧设有一清洁腔体，从而对于蚀刻后的晶圆进行表面清洗。