[发明专利]微弧氧化涂层硅烷化处理液及封孔方法有效

专利信息
申请号: 201210010977.2 申请日: 2012-01-14
公开(公告)号: CN102703892A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 王艳秋;房爱存;石世瑞;邵亚薇;张涛;孟国哲 申请(专利权)人: 哈尔滨工程大学
主分类号: C23C22/48 分类号: C23C22/48;C25D11/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要:
搜索关键词: 氧化 涂层 硅烷 处理 方法
【权利要求书】:

1.一种微弧氧化涂层硅烷化处理液,其特征是:是由去离子水、醇、硅烷偶联剂,按照体积比为3-9∶1∶1的比例混合,调pH值而成的硅烷偶联剂水解溶液。

2.根据权利要求1所述的微弧氧化涂层硅烷化处理液,其特征是:所述硅烷偶联剂为氨基硅烷偶联剂、环氧基硅烷偶联剂、甲基丙烯含氧基硅烷偶联剂、乙烯基硅烷偶联剂或者巯基硅烷偶联剂中的一种或几种的混合物。

3.根据权利要求2所述的微弧氧化涂层硅烷化处理液,其特征是:所述醇是甲醇,所述硅烷偶联剂为环氧基硅烷偶联剂。

4.根据权利要求2所述的微弧氧化涂层硅烷化处理液,其特征是:所述醇是乙醇,所述硅烷偶联剂为氨基硅烷偶联剂。

5.根据权利要求3所述的微弧氧化涂层硅烷化处理液,其特征是:所述环氧基硅烷偶联剂为γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷。

6.根据权利要求4所述的微弧氧化涂层硅烷化处理液,其特征是:所述氨基硅烷偶联剂为γ-氨丙基三乙氧基硅烷。

7.一种微弧氧化涂层硅烷化处理液的封孔方法,其特征是:

(1)按照体积比为3-6∶1∶1的比例将去离子水、醇、硅烷偶联剂混合,调pH值,制成微弧氧化涂层硅烷化处理液;

(2)对微弧氧化涂层硅烷化处理液进行12h以上的水解处理得到硅烷偶联剂水解溶液;

(3)将微弧氧化涂层在上硅烷偶联剂水解溶液中浸渍10s-20min,取出风干得到吸附水解溶液的涂层;

(4)将吸附水解溶液的涂层在50-300℃温度下加热固化15-300min。

8.根据权利要求7所述的微弧氧化涂层硅烷化处理液的封孔方法,其特征是:所述醇是乙醇,所述硅烷偶联剂为氨基硅烷偶联剂。

9.根据权利要求7所述的微弧氧化涂层硅烷化处理液的封孔方法,其特征是:所述醇是乙醇,所述硅烷偶联剂为氨基硅烷偶联剂。

10.根据权利要求7、8或9所述的微弧氧化涂层硅烷化处理液的封孔方法,其特征是:所述调pH值为用乙酸调整pH值至5。

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