[发明专利]真空传输制程设备及方法有效
申请号: | 201210021806.X | 申请日: | 2012-01-31 |
公开(公告)号: | CN103227233A | 公开(公告)日: | 2013-07-31 |
发明(设计)人: | 陈炯;钱锋 | 申请(专利权)人: | 上海凯世通半导体有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/677 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 薛琦;王婧荷 |
地址: | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空 传输 设备 方法 | ||
1.一种真空传输制程设备,其特征在于,其包括:
一真空制程腔,包括一加工区域、位于该加工区域一侧的一第一等待区域以及位于该加工区域另一侧的一第二等待区域,该加工区域中设有一个或两个以上的用于利用加工介质对工件进行加工的加工装置;
一能够在大气状态与真空状态之间切换的进出件腔,当该进出件腔处于真空状态时,该进出件腔的接近该加工区域该侧的一端能够与该第一等待区域连通、该进出件腔的接近该加工区域该另一侧的一端能够与该第二等待区域连通;
多个传输平台,用于承载工件从大气环境进入该进出件腔、从该进出件腔经过该第一等待区域或该第二等待区域进入该加工区域、在该加工区域中完成工件加工、从该加工区域经过该第一等待区域或该第二等待区域移回该进出件腔、然后从该进出件腔移回大气环境,且各传输平台用于依次连续地在该加工区域中完成工件加工。
2.如权利要求1所述的真空传输制程设备,其特征在于,方案一:各传输平台均用于从该进出件腔经过该第一等待区域进入该加工区域、奇数次移动通过该加工区域完成工件加工、然后从该加工区域经过该第二等待区域移回该进出件腔;或者,方案二:该些传输平台中的部分传输平台用于从该进出件腔经过该第一等待区域进入该加工区域、偶数次移动通过该加工区域完成工件加工、然后从该加工区域经过该第一等待区域移回该进出件腔,剩余传输平台用于从该进出件腔经过该第二等待区域进入该加工区域、偶数次移动通过该加工区域完成工件加工、然后从该加工区域经过该第二等待区域移回该进出件腔,且来自该第一等待区域与该第二等待区域的传输平台交替地在该加工区域中完成工件加工。
3.如权利要求1所述的真空传输制程设备,其特征在于,该加工区域、该第一等待区域、该进出件腔以及该第二等待区域连接成矩形或环形。
4.如权利要求1-3中任意一项所述的真空传输制程设备,其特征在于,当该加工区域中设有一个加工装置时,该进出件腔仅用于在该加工装置的加工介质未作用在工件上时与该第一等待区域或该第二等待区域连通;当该加工区域中设有两个以上加工装置时,该进出件腔仅用于在该两个以上加工装置中有至少一个加工装置的加工介质未作用在工件上时与该第一等待区域或该第二等待区域连通。
5.如权利要求4所述的真空传输制程设备,其特征在于,当该加工区域中设有两个以上加工装置时,该进出件腔仅用于在该两个以上加工装置的加工介质均未作用在工件上时与该第一等待区域或该第二等待区域连通。
6.如权利要求1-5中任意一项所述的真空传输制程设备,其特征在于,该些传输平台分为多组,每组传输平台中的各传输平台在从大气环境进入该进出件腔直至该组传输平台中有一个传输平台开始进入该加工区域为止的时间段中以及在从该组传输平台全部移出该加工区域直至从该进出件腔移回大气环境为止的时间段中均用于叠置地一同移动或等待。
7.如权利要求6所述的真空传输制程设备,其特征在于,每组传输平台中传输平台的数量为2个。
8.如权利要求1-7中任意一项所述的真空传输制程设备,其特征在于,各传输平台均用于以长度方向平行于该进出件腔的长度方向的姿态沿着该进出件腔的长度方向在该进出件腔与该第一等待区域或该第二等待区域之间移动。
9.一种真空传输制程方法,其特征在于,其利用权利要求1所述的真空传输制程设备实现,该些传输平台承载工件从大气环境进入该进出件腔、从该进出件腔经过该第一等待区域或该第二等待区域进入该加工区域、在该加工区域中完成工件加工、从该加工区域经过该第一等待区域或该第二等待区域移回该进出件腔、然后从该进出件腔移回大气环境,且各传输平台依次连续地在该加工区域中完成工件加工。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的