[发明专利]一种投影光刻机的硅片台对准机构

说明书

技术领域

本发明涉及对准机构的机械领域，特别涉及一种投影光刻机的硅片台对准机构。

背景技术

投影光刻机的硅片台对准机构所用螺纹副为一般螺纹副，精度相对较低，当增加导轨和楔块机构以后，可以缩小传动杆和调节螺栓之间的传动比，从而可以提高硅片台旋转定位精度。

以前投影光刻机的硅片台拥有的对准机构，校正硅片台的角度误差精度不够高，直接影响投影光刻机的套刻精度。所以这使高精度硅片台对准机构显得十分必要，且该机构可以保证光刻机长期稳定工作。

发明内容

为了克服因角度误差对光刻机所能实现的套刻精度的不良影响，本发明的目的是提供使得现场高精度硅片台微旋转调整成为可能，提高光刻机的套刻精度，保证了投影光刻机长期稳定可靠的工作。

为达到上述目的，本发明所采用的技术方案为：一种投影光刻机的硅片台对准机构，投影光刻机中的硅片台对准机构包括拉簧、硅片台、止推轴承、基座、调节螺栓、螺纹副、光孔、传动杆、楔块、导轨副、导轨；调节螺栓被固定在位于基座的螺纹副上，调节螺栓的前端为球型，楔块位于导轨上并与调节螺栓前端接触，楔块与传动杆接触，传动杆位于基座的光孔上，拉簧的左端套在硅片台上，拉簧的右端挂在基座上，硅片台始终与传动杆保持接触。

优选的，所述的调节螺栓传动杆的前端均为球形，调节螺栓前端的球形始终保持与楔块相接触，楔块的斜面与传动杆斜面接触，传动杆前端的球形始终保持硅片台相接触。

优选的，所述的螺纹副为一般螺纹副，楔块与传动杆之间为斜面，楔块与导轨之间为导轨副。

本发明的优点是，本发明能够对投影光刻机中的硅片台进行精确的角度调整，当投影光刻机的硅片台存在角度误差时，本发明通过调整基座上的调节螺栓，使调节螺栓推动楔块移动，楔块推动传动杆移动，传动杆推动硅片台做微旋转运动，同时拉簧又使传动杆顶在硅片台上，从而硅片台保持与传动杆的接触，消除硅片台与传动杆之间的间隙，增加预紧力，校正硅片台的角度误差，保证了投影光刻机长期稳定可靠的工作，提高了光刻机的套刻精度；并且本发明具有机构简单、安装调整方便、经济、安全、可靠等优点。

附图说明

图1为本发明的系统原理图；

附图标记：1拉簧、2硅片台、3止推轴承、4基座、5调节螺栓、6螺纹副、7光孔、8传动杆、9楔块、10导轨副、11导轨。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照附图，对本发明进一步详细说明。

如图1所示，本发明由拉簧1、硅片台2、止推轴承3、基座4、调节螺栓5、螺纹副6、光孔7、传动杆8、楔块9、导轨副10、导轨11组成。此硅片台2的对准机构被安装在止推轴承3上。调节螺栓5被固定在基座4的螺纹副6内，调节螺栓5的前端为球形；拉簧1的左端套在硅片台2上，拉簧1的右端挂在基座4上，调节螺栓5的前端顶在楔块9上，楔块9与传动杆8保持接触，传动杆8通过基座4上的光孔7顶在硅片台2的手轮顶杆上。在光刻机曝光过程中，当硅片台2存在角度误差时，可旋转调节螺栓5向前或向后位移，使硅片台2做微旋转移动，同时拉簧1使硅片台2保持与传动杆8的接触。最终使得硅片台2做不同角度的旋转，克服了因硅片台2的角度误差产生对投影光刻机套刻的影响，提高了投影光刻机套刻的质量。

本发明中的硅片台2与基座4之间为拉簧1，调节螺栓5的前端为球形，拉簧1可以保证硅片台2的手轮顶杆始终与传动杆8前端的球形的接触，这样调节螺栓5向前或向后位移都能推动传动杆8移动，从而微调硅片台2的转角。

螺纹副6将调节螺栓5的旋转运动变为向前或向后的微位移。所述的螺纹副6为一般螺纹副。

传动杆8的前端为球形并始终与硅片台2保持点接触，保证硅片台2与传动杆8之间没有间隙，增加预紧力，提高了硅片台2的转角精度。

本发明能够对投影光刻机中的硅片台进行高精度微旋转调整，以达到校正硅片台的转角误差要求，克服了因硅片台旋转误差对投影光刻机套刻的影响，提高了套刻质量。

上述实施例仅为说明本发明的原理及其功效，而非用于限制本发明，熟知本领域的技术人员均可在不违背本发明的精神及范畴下，对上述实施例进行修改或者等同替换，其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。