[发明专利]固态图像拾取装置、其制造方法和图像拾取系统无效
申请号: | 201210027929.4 | 申请日: | 2012-02-09 |
公开(公告)号: | CN102637708A | 公开(公告)日: | 2012-08-15 |
发明(设计)人: | 冈部刚士;铃木健太郎;碓井崇;加藤太朗;下津佐峰生;滝本俊介 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 杨小明 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 固态 图像 拾取 装置 制造 方法 系统 | ||
1.一种用于制造固态图像拾取装置的方法,所述固态图像拾取装置包括光电转换部分、第一绝缘膜、在所述第一绝缘膜上的第二绝缘膜、以及波导,所述光电转换部分设置在半导体衬底中,所述第一绝缘膜用作所述光电转换部分之上的抗反射膜,所述第二绝缘膜与所述光电转换部分对应地设置,所述波导具有包层和芯,所述芯的底部设置在所述第二绝缘膜上,所述方法包括:
通过在设置在所述光电转换部分之上的部件被蚀刻得比所述第二绝缘膜快的条件下部分蚀刻所述部件来形成开口,从而形成所述包层,以及
在所述开口中形成所述芯。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一绝缘膜是多层抗反射膜。
3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一绝缘膜包括由氮化硅制成的绝缘层以及在所述由氮化硅制成的绝缘层上的由氧化硅制成的绝缘层。
4.根据权利要求1所述的方法,其中,所述半导体衬底具有栅电极,所述栅电极传输所述光电转换部分的信号电荷,并且所述第一绝缘膜在从所述光电转换部分到所述栅电极的区域上延伸。
5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述芯和所述第二绝缘膜由相同的材料制成。
6.一种固态图像拾取装置,包括:
多个光电转换部分,所述多个光电转换部分设置在半导体衬底中;
所述光电转换部分之上的第一绝缘膜,所述第一绝缘膜用作抗反射膜;
所述第一绝缘膜上的多个第二绝缘膜,所述多个第二绝缘膜与所述光电转换部分对应地设置;和
多个波导,所述多个波导各自包括包层和芯,所述芯的底部与对应的第二绝缘膜接触,所述芯由与所述第二绝缘膜相同的材料制成。
7.根据权利要求6所述的固态图像拾取装置,其中,所述第二绝缘膜一一对应于各个所述光电转换部分。
8.根据权利要求6所述的固态图像拾取装置,还包括传输所述光电转换部分的信号电荷的多个栅电极,并且所述第一绝缘膜延伸以覆盖所述栅电极。
9.根据权利要求6所述的固态图像拾取装置,其中,所述第一绝缘膜包括由氮化硅制成的绝缘层以及在所述由氮化硅制成的绝缘层上的由氧化硅制成的绝缘层,并且所述第二绝缘膜由氮化硅制成。
10.根据权利要求8所述的固态图像拾取装置,其中,所述第二绝缘膜的上表面位置比所述栅电极的上表面更接近所述半导体衬底。
11.一种图像拾取系统,包括:
根据权利要求6所述的固态图像拾取装置;和
信号处理设备,所述信号处理设备处理来自所述固态图像拾取装置的电信号。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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