[发明专利]电子装置及其积层结构及积层结构的制造方法

权利要求书

1.一种积层结构，用于一电子装置，该积层结构包括：

一基板，具有一第一区域及一第二区域，该第二区域设置于该第一区域周围；以及

一散射层，设置于该第二区域，且该散射层的厚度介于0.5～4微米，光学密度值大于4，该散射层的颜色于Lab色彩空间定义中的L值大于70，a、b值则分别介于正负1之间。

2.如权利要求1所述的积层结构，其特征在于，该基板为玻璃基板。

3.如权利要求1所述的积层结构，其特征在于，该第一区域是对应一有源显示区，而该第二区域是对应一非有源显示区。

4.如权利要求1所述的积层结构，其特征在于，该散射层的材质为一金属氧化物。

5.如权利要求4所述的积层结构，其特征在于，该散射层的材质包含AlO_X、TiO_X、AgO_X或CrO_X或其组合。

6.如权利要求4所述的积层结构，其特征在于，该散射层的含氧量为渐变的。

7.如权利要求1所述的积层结构，其特征在于，该散射层的表面粗糙度介于100纳米至1微米之间。

8.如权利要求1所述的积层结构，还包括：

一反射层，设置于该散射层之上。

9.如权利要求8所述的积层结构，还包括：

一感测电极层，图案化设置于该第一区域；

一介电层，设置于该反射层及部分该感测电极层上；以及

一导线层，设置于该介电层及该第二区域之上，并与该感测电极层电性连结。

10.如权利要求8所述的积层结构，还包括：

一感测电极层，图案化设置于该第一区域，该反射层电性连结于该感测电极层；

一介电层，设置于部分该感测电极层上；以及

一导线层，设置于该介电层上，并与该感测电极层电性连结。

11.一种电子装置，包括：

一如权利要求1所述的积层结构；以及

一触控显示面板，与该积层结构相对设置。

12.一种电子装置，包括：

一如权利要求9所述的积层结构；以及

一显示面板，与该积层结构相对设置。

13.一种电子装置，包括：

一如权利要求10所述的积层结构；以及

一显示面板，与该积层结构相对设置。

14.一种电子装置的积层结构制作方法，包括：

以干式制程形成一散射层于一基板的一第二区域，该第二区域设置于一第一区域周围，

其中，该散射层的厚度介于0.5～4微米，光学密度值大于4，该散射层的颜色于Lab色彩空间定义中的L值大于70，a、b值则分别介于正负1之间。

15.如权利要求14所述的制作方法，其特征在于，该散射层是利用物理气相沉积或化学气相沉积形成。

16.如权利要求14所述的制作方法，其特征在于，该散射层的材质为一金属氧化物。

17.如权利要求16所述的制作方法，其特征在于，该散射层的含氧量为渐变的。

18.如权利要求14所述的制作方法，还包括：

形成一反射层于该散射层之上。

19.如权利要求18所述的制作方法，还包括：

图案化形成一感测电极层于该基板的该第一区域；

形成一介电层于该反射层及部分该感测电极层上；以及

形成一导线层于该介电层及该第二区域之上，并与该感测电极层电性连结。

20.如权利要求18所述的制作方法，还包括：

图案化形成一感测电极层于该基板的该第一区域，该反射层电性连结于该感测电极层；

形成一介电层于部分该感测电极层上；以及

形成一导线层于该介电层上，并与该感测电极层电性连结。

21.如权利要求19所述的制作方法，其特征在于，该反射层与该导线层为同一材料及同一制程形成。