[发明专利]一种丙烯酸正性光刻胶及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201210033673.8 申请日: 2012-02-15
公开(公告)号: CN102608866A 公开(公告)日: 2012-07-25
发明(设计)人: 张盼;杨光;孙越 申请(专利权)人: 潍坊星泰克微电子材料有限公司
主分类号: G03F7/039 分类号: G03F7/039;G03F7/027;G03F7/004
代理公司: 潍坊正信专利事务所 37216 代理人: 王纪辰
地址: 261061 山东省潍*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 丙烯酸 光刻 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1. 一种丙烯酸正性光刻胶,其特征在于:所述正性光刻胶由包括以下重量百分比的原料制备而成:

聚丙烯酸树脂                   5~30wt%,              

光致酸发生剂                   1~20wt%,

含有多个羟基的酯               5~40wt%,

丙二醇甲醚醋酸酯               30~60wt%。

2. 如权利要求1所述的丙烯酸正性光刻胶,其特征在于:所述正性光刻胶由包括以下重量百分比的原料制备而成:

聚丙烯酸树脂                   5~30wt%,              

光致酸发生剂                   1~10wt%,

含有多个羟基的酯               5~40wt%,

丙二醇甲醚醋酸酯               30~60wt%。

3. 如权利要求1或2所述的丙烯酸正性光刻胶,其特征在于:所述光致酸发生剂是在紫外线的辐射下能释放强酸的化合物。

4. 如权利要求3所述的丙烯酸正性光刻胶,其特征在于:所述光致酸发生剂为三苯基锍与三氟甲磺酸的盐(1:1)。

5. 如权利要求1或2所述的丙烯酸正性光刻胶,其特征在于:所述含有多个羟基的酯为二季戊四醇六丙烯酸酯或二季戊四醇五丙烯酸酯。

6. 如权利要求1或2所述的丙烯酸正性光刻胶,其特征在于:所述丙烯酸正性光刻胶适用于波长为365纳米、248纳米、193纳米或13.5纳米的曝光光源。

7. 制备如权利要求6所述的丙烯酸正性光刻胶的方法,其特征在于在无尘、黄光条件下,按权利要求1或2所述的重量百分比,包括以下步骤制备:

(1)向丙二醇甲醚醋酸酯中加入含有多个羟基的酯;

(2)将步骤(1)的物质搅拌6~10个小时形成混合溶液;

(3)向所述混合溶液中加入聚丙烯酸树脂、光致酸发生剂;

(4)将(3)得到的组合物搅拌20~30小时,得到所述丙烯酸正性光刻胶。

8. 如权利要求7所述的丙烯酸正性光刻胶的制备方法,其特征在于:所述光致酸发生剂是在紫外线的辐射下能释放强酸的化合物。

9. 如权利要求8所述的丙烯酸正性光刻胶的制备方法,其特征在于:所述光致酸发生剂为三苯基锍与三氟甲磺酸的盐(1:1)。

10. 如权利要求7至9任一权力要求所述的丙烯酸正性光刻胶的制备方法,其特征在于:所述含有多个羟基的酯为二季戊四醇六丙烯酸酯或二季戊四醇五丙烯酸酯。

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