[发明专利]图案形成方法及图案形成装置、以及元件制造方法

说明书

技术领域

本发明有关于图案形成方法及图案形成装置、以及元件制造方法，进一步详言之，有关于在物体形成图案的图案形成方法及图案形成装置、以及使用该图案形成方法及图案形成装置的元件制造方法。

背景技术

用以制造半导体元件、液晶显示元件等微元件(电子元件)的光刻工艺，是使用将形成于光掩膜或标线片(以下，统称为“标线片”)的图案通过投影光学系统，转印至涂有光刻胶的基板、例如晶片或玻璃板等感光物体(以下，统称为“晶片”)上的曝光装置。

半导体元件等，是于晶片上重迭复数层图案而形成。因此，曝光装置必须有将已形成于晶片上的图案、与形成于标线片的图案调整至最佳相对位置关系的操作(对准)。此对准方式，主要使用EGA(Enhanced Global Alignment，增强型全晶片对准)方式。此EGA方式，是事先选择晶片内特定的复数个照射区域(也称为取样照射区域或对准照射区域)，并依序测量设于这些取样照射区域的对准标记(取样标记)的位置信息。然后，使用此测量结果与照射区域的设计上排列信息，进行最小平方法等的统计运算，求取晶片上照射区域的排列坐标。因此，使用EGA方式能以高处理量、较高精度求得各照射区域的排列坐标(例如，参考专利文献1)。

上述对准，由于是测量设于复数个取样照射区域的对准标记。因此，必须沿着复数个对准标记能依序位于标记检测系统(对准标记检测系统)的检测区域(检测视野)内的路径移动晶片。现有的晶片对准动作(取样标记的测量动作)是在晶片曝光开始前先进行，因此，当取样照射区域数量增加时，会有测量耗费大量时间而引起曝光装置整体的处理量降低的忧虑。

因此，最近，开发出所谓双载台方式的载台装置并逐渐采用于曝光装置，其准备两个晶片载台，在以一晶片载台进行曝光时另一晶片侧载台进行对准的并行处理，来提升曝光工艺整体的处理量。然而，由于双载台非常昂贵，因此希望出现一种不使用双载台，能抑制对准动作造成的处理量降低的技术。

专利文献1：日本特开昭61-44429号公报

发明内容

本发明是在上述情形下完成，其第1图案形成方法，于物体上形成图案，其特征在于，包含：第1步骤，在移动物体的期间，一边移动标记检测系统的至少一部分、一边检测该物体上的标记；以及第2步骤，使用该标记的检测结果于该物体形成图案。

据此，于移动物体的期间，一边移动标记检测系统的一部分、一边检测物体上的标记。因此，能提升含第1步骤及第2步骤的全工艺的处理量。

此时，标记的检测，可至少在该移动体从将该物体保持于该移动体的装载位置、移动至对该物体的图案形成开始位置为止的期间进行，也可在至少在对物体的图案形成开始后(至少在图案形成处理中(例如曝光处理中))进行。

本发明的第2图案形成方法，于物体形成图案，其包含：第1步骤，在该物体移动的期间，一边使标记检测系统的检测区域移动、一边检测该物体上的标记；以及第2步骤，使用该标记的检测结果于该物体形成图案。

据此，由于是在物体移动中，一边使标记检测系统的检测区域移动、一边检测物体上的标记，因此能通过在物体移动中进行标记检测，而缩短标记检测所需时间，进而谋求全工艺处理量的提升。

本发明的第3图案形成方法，是于物体上形成图案，其特征在于：以标记检测系统检测该物体上的标记，使用该检测结果开始对该物体的图案形成；且该图案形成开始后也以该标记检测系统检测该物体上的标记，于该图案形成使用该检测结果。

据此，由于在使用物体上标记的检测结果开始对该物体的图案形成开始后，与该图案形成并行进行物体上标记的检测，于图案形成使用其检测结果，因此能在维持处理量的状态下，增加所检测的标记数量。如此，即能在维持处理量的状态下实现高精度的图案形成。

本发明的第4图案形成方法，于物体形成图案，其特征在于：使该物体移动于第1方向，通过在与该第1方向正交的第2方向具有不同位置的检测区域的复数个标记检测系统，来分别检测该物体上于该第1方向不同位置的复数个标记，且通过与该标记检测系统不同的检测系统检测与该物体面形状相关的信息；使用该二个检测结果于该物体形成图案。

据此，由于是一边使物体移动于第1方向、一边通过在与该第1方向正交的第2方向具有不同位置的检测区域的复数个标记检测系统，来分别检测物体上于第1方向不同位置的复数个标记，因此能谋求标记检测所需时间的缩短。此外，由于是使用标记检测结果与关于物体面形状的信息于物体形成图案，因此能进行高精度的图案形成。