[发明专利]偏光元件的制造方法

权利要求书

1.一种偏光元件的制造方法，其特征在于，具有以下工序：

在玻璃基板上形成金属卤化物岛状膜的工序，

通过将所述玻璃基板加热拉伸而使所述岛状膜伸长，形成所述金属卤化物的针状粒子的工序，和

通过还原所述针状粒子的所述金属卤化物而形成由金属构成的针状金属粒子的工序；

并且，所述金属卤化物是利用反应性物理蒸镀法堆积在所述玻璃基板上的。

2.根据权利要求1所述的偏光元件的制造方法，其特征在于，形成所述岛状膜的工序具有以下工序：

利用所述反应性物理蒸镀法在所述玻璃基板上形成由所述金属卤化物构成的被膜的工序；和

通过对所述被膜进行蚀刻处理而形成所述岛状膜的工序。

3.根据权利要求1或2所述的偏光元件的制造方法，其特征在于，所述蚀刻处理是使用非活性气体或反应性气体的干式蚀刻处理。

4.根据权利要求1～3中任1项所述的偏光元件的制造方法，其特征在于，所述反应性物理蒸镀法是使用由选自Au、Ag、Cu、Cd、Al中的1种或2种以上的金属构成的靶和含卤素气体的工艺气体的反应性溅射法。