[发明专利]偏光元件的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及偏光元件的制造方法。 

背景技术

作为偏光元件的一种已知偏光玻璃。由于偏光玻璃能够仅由无机物构成，所以与含有机物的偏光板相比较，对光的劣化明显少。由此，在近年来高亮度化一直发展的液晶投影仪中，偏光玻璃作为有效的光学器件受到关注。 

作为一般的偏光玻璃公知的有专利文献1中记载的偏光玻璃，其制造方法如下所述。 

(1)由含有选自氯化物、溴化物及碘化物中的至少一种卤化物及银的组合物来制作所希望形状的玻璃制品。 

(2)将该玻璃制品经足够在该玻璃制品中使AgCl、AgBr或AgI的结晶生成的时间，加热到高于应变点但不高于玻璃软化点约50℃的温度而制作含有结晶的制品。 

(3)在高于退火点但低于玻璃呈现约108泊的粘度的温度的温度下，将该含有结晶的制品在应力下伸长以使结晶以至少5∶1的宽长比伸长。 

(4)将该制品经足够在该制品上使化学还原表面层扩大的时间，暴露于比约250℃高但不高于玻璃退火点约25℃的温度的还原气氛中。由此伸长的卤化银粒子的至少一部分被还原成银元素。 

另一方面，已知用离子交换法将银或铜向玻璃表层中导入后，使银或铜的卤化物的相析出，将其伸长，从而在玻璃制品的表层形成具有偏光分离功能的层的方法(参照专利文献2)。 

专利文献1：日本特开昭56-169140号公报 

专利文献2：日本专利第4394355号公报 

发明内容

专利文献1记载的制造方法中，在玻璃制品中同样有卤化物析出，而另一方面还原工序中只还原玻璃制品表层的卤化物，所以在玻璃制品的厚度方向的中央部分残留卤化物。因此，偏光元件的透过率下降，在用于液晶显示装置等中时，有可能无法得到足够的亮度。 

另一方面，根据专利文献2记载的方法，则仅在玻璃制品的表层部导入银或铜，所以能够防止由未被还原而残留的卤化物所致的上述的不良情况。但是，由于需要将玻璃制品浸渍在高温(350℃～750℃)的熔融盐中长达8小时左右，所以环境负荷高。换言之，制造时的消耗能量非常多且生产率差。 

本发明是鉴于上述现有技术的问题点完成的，目的之一在于提供一种简便地制造光学特性优异的偏光元件的方法。 

本发明的偏光元件的制造方法的特征在于，具有以下工序：在玻璃基板上形成金属卤化物的岛状膜的工序；通过加热拉伸上述玻璃基板而使上述岛状膜伸长，形成上述金属卤化物的针状粒子的工序；及通过还原上述针状粒子上述金属卤化物而形成由金属构成的针状金属粒子的工序；并且，上述金属卤化物是利用反应性物理蒸镀法堆积在上述玻璃基板上的。 

根据该制造方法，在玻璃基板的表面形成岛状膜，拉伸该岛状膜形成针状粒子后，利用还原处理形成针状金属粒子，所以能够可靠地对金属卤化物进行还原处理。因此，不会产生由金属卤化物的残留所致的光学特性的下降。并且，由于使用薄膜形成工序在玻璃基板上形成金属卤化物的岛状膜，所以能够以与利用离子交换在玻璃的表层导入金属这样的以往的工序相比显著简便的工序进行制造。因此，能够使制造时的消耗能量极其变少，而且还能提高生产率。 

可以是如下的制造方法，即，形成上述岛状膜的工序具有以下工序：利用上述反应性物理蒸镀法在上述玻璃基板上形成由上述金属卤化物构成的被膜的工序；和通过对上述被膜进行蚀刻处理而形成上述岛状膜 的工序。 

根据该制造方法，能够独立于形成被膜的工序选择对被膜进行蚀刻处理时的条件，所以能够容易地控制构成岛状膜的岛状粒子的配置密度，进而能够容易地控制偏光元件的光学特性。 

上述蚀刻处理也可以为使用非活性气体或反应性气体的干式蚀刻处理的制造方法。 

根据该制造方法，能够简便地以高成品率形成金属卤化物的岛状膜。 

也可以是上述反应性物理蒸镀法为使用由选自Au、Ag、Cu、Cd、Al中的1种或2种以上的金属构成的靶和含卤素气体的工艺气体的反应性溅射法的制造方法。 

根据该制造方法，能够以高成品率快速将金属卤化物形成在玻璃基板上，所以能够高效率制造偏光元件。 

附图说明

图1是表示实施方式的偏光元件的制造方法的图。 

图2是表示蚀刻工序后及拉伸工序后的玻璃基板表面的俯视图。 

具体实施方式

以下，使用附图对本发明的实施方式进行说明。