[发明专利]一种铜铁矿型铜铝氧红外透明导电膜的制备方法无效
申请号: | 201210042541.1 | 申请日: | 2012-02-23 |
公开(公告)号: | CN102586746A | 公开(公告)日: | 2012-07-18 |
发明(设计)人: | 王一丁;曹峰;陈君景;董成军;曹佳佳;付强;揣雅惠;陈晨 | 申请(专利权)人: | 吉林大学 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/08 |
代理公司: | 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 | 代理人: | 张景林;刘喜生 |
地址: | 130012 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 铁矿 型铜铝氧 红外 透明 导电 制备 方法 | ||
1.一种CuAlO2红外透明导电膜的制备方法,其步骤如下:
(1)阴极靶材为Cu2O和Al2O3双陶瓷靶材或Cu和Al双金属靶材,在溅射室内通入一定比例的氧气和氩气,其中氧气是反应气体,氩气是工作气体,调节阳极和阴极靶材间的电压,使靶材原子或分子获得大于其逸出功的能量从而发生溅射,中性的靶材原子或分子则沉积在衬底表面形成厚度为400nm~600nm的CuAlO2薄膜;衬底温度保持在180~220℃;阴极靶材为Cu2O和Al2O3双陶瓷靶材时,靶电源采用13.56MHz射频电源,功率分别为90~110W和140~160W,电压分别控制在55~65V和75~85V之间,阳极为地电压,两电源开启时间即两靶共溅射时间为30~60min;靶材为双金属靶材时,阴极Cu靶电源采用13.56MHz射频电源,阴极Al靶电源采用直流电源,功率分别为45~55W和70~80W,电压分别控制在35~45V和50~60V之间,阳极为地电压,两电源开启时间即两靶共溅射时间为30~60min;
(2)将上一步骤制备的CuAlO2薄膜连同衬底放入氮气中于500~600℃下退火3~5小时,使其完成初步化学反应,再继续高温退火3~5小时,退火温度为1000~1200℃,使反应完全并结晶,从而在衬底上制备得到CuAlO2红外透明导电薄膜。
2.如权利要求1所述的CuAlO2红外透明导电膜的制备方法,其特征在于:衬底为蓝宝石或硅(111)。
3.如权利要求2所述的CuAlO2红外透明导电膜的制备方法,其特征在于:衬底清洗后使用。
4.如权利要求3所述的CuAlO2红外透明导电膜的制备方法,其特征在于:硅(111)衬底的清洗是在常温常压下用丙酮溶液在超声清洗器中清洗10~15min,然后在HF中浸泡10~15min,最后用去离子水冲洗5~10min。
5.如权利要求3所述的CuAlO2红外透明导电膜的制备方法,其特征在于:蓝宝石衬底的清洗:常温常压下用丙酮溶液在超声清洗器中清洗10~15min,再用乙醇溶液在超声清洗器中清洗10~15min,最后用去离子水冲洗5~10min。
6.如权利要求1所述的CuAlO2红外透明导电膜的制备方法,其特征在于:溅射室的本底真空度为0.5×10-4~2×10-4Pa。
7.如权利要求1所述的CuAlO2红外透明导电膜的制备方法,其特征在于:氧气和氩气的体积比为1∶1~1∶3。
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