[发明专利]纳米晶浮栅存储器阵列的编程方法无效
申请号: | 201210048569.6 | 申请日: | 2012-02-28 |
公开(公告)号: | CN103295636A | 公开(公告)日: | 2013-09-11 |
发明(设计)人: | 王琴;杨潇楠;王永;张满红;霍宗亮;刘明 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G11C16/10 | 分类号: | G11C16/10 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 宋焰琴 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纳米 晶浮栅 存储器 阵列 编程 方法 | ||
1.一种纳米晶浮栅存储器阵列的编程方法,所述阵列包括多个纳米晶浮栅存储器、多条相互平行排列的位线和多条相互平行排列的字线,其中,每个纳米晶浮栅存储器包括一个存储单元,且每个存储单元连接一条位线和一条字线,所述多条位线与所述多条字线相互垂直排列,其特征在于:
当对所选定存储单元进行编程时,该方法包括如下步骤:
将与所选定存储单元连接的位线之前的第二条位线接地;
对与所选定存储单元连接的位线之前的第一条位线施加电压Vl;
对与所选定存储单元连接的位线施加电压Vh;
所述Vl小于Vh。
2.如权利要求1所述的纳米晶浮栅存储器阵列的编程方法,其特征在于:将与未选定存储单元连接的位线浮空。
3.如权利要求1所述的纳米晶浮栅存储器阵列的编程方法,其特征在于:所述多条字线浮空。
4.如权利要求1所述的纳米晶浮栅存储器阵列的编程方法,其特征在于:所述Vl为4~5V。
5.如权利要求1所述的纳米晶浮栅存储器阵列的编程方法,其特征在于:所述Vh为10~15V。
6.如权利要求1所述的纳米晶浮栅存储器阵列的编程方法,其特征在于,所述纳米晶浮栅存储器的存储单元包括纳米晶浮栅层(3),其作为纳米晶浮栅存储器的存储介质。
7.如权利要求6所述的纳米晶浮栅存储器阵列的编程方法,其特征在于,所述纳米晶浮栅存储器的存储单元还包括:
硅衬底(1),在硅衬底(1)上具有重掺杂的源导电区(6)和漏导电区(7)。
8.如权利要求7所述的纳米晶浮栅存储器阵列的编程方法,其特征在于,所述纳米晶浮栅存储器的存储单元还包括:
隧穿层(2),其覆盖于所述源导电区(6)和漏导电区(7)之间的载流子沟道上,并且,所述纳米晶浮栅层(3)覆盖在该隧穿层(2)上。
9.如权利要求8所述的纳米晶浮栅存储器阵列的编程方法,其特征在于,所述纳米晶浮栅存储器的存储单元还包括:
控制栅介质层(4),其覆盖于纳米晶浮栅层(3)上。
10.如权利要求9所述的纳米晶浮栅存储器阵列的编程方法,其特征在于,所述纳米晶浮栅存储器的存储单元还包括:
栅电极层(5),其覆盖于控制栅介质层(4)上。
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