[发明专利]一种镭射屏幕保护膜及其制备方法

权利要求书

1.一种镭射屏幕保护膜，其特征在于：它包括抗刮层保护膜(1)、保护膜胶层(2)、抗刮层(3)、镭射膜层(4)、复合胶层(5)、主膜PET基材(6)、安装胶层(7)和安装胶保护膜(8)；

其中，主膜PET基材(6)的一面上涂布复合胶层(5)，镭射膜层(4)的金属面与该复合胶层(5)复合；主膜PET基材(6)的另一面上涂布一层安装胶层(7)，该安装胶层(7)与安装胶保护膜(8)复合；镭射膜层(4)的背面涂布抗刮层(3)，抗刮层保护膜(1)的电晕面上涂布保护膜胶层(2)，该保护膜胶层(2)与抗刮层(3)复合。

2.根据权利要求1所述的镭射屏幕保护膜，其特征在于：所述镭射膜层(4)为镭射金属膜层，其采用热压印方法制成，利用带有纹路图案的压辊直接压复在带有金属纳米粒子的胶液表面，然后将形成的图案加热固化后而形成的具有镭射效果的胶层。

3.根据权利要求2所述的镭射屏幕保护膜，其特征在于：所述的金属纳米粒子选自纳米银粉、纳米铜粉、纳米铝粉、纳米金粉、纳米铂粉、纳米钯粉、纳米铑粉、纳米钉粉、纳米锇粉中的一种或多种。

4.根据权利要求2或3所述的镭射屏幕保护膜，其特征在于：所述的金属纳米粒子的平均粒径为10～80nm。

5.根据权利要求1至3所述的镭射屏幕保护膜，其特征在于：所述的各膜层、各胶层的厚度分别为：

抗刮层保护膜(1)                        12um～50um；

保护膜胶层(2)                          5um～20um；

抗刮层(3)                              2um～8um；

镭射膜层(4)                            10um～50um；

复合胶层(5)                            4um～20um；

主膜PET基材(6)                         50um～300um；

安装胶层(7)                            10um～40um；

安装胶保护膜(8)                        12um～50um。

6.根据权利要求5所述的镭射屏幕保护膜，其特征在于：所述的主膜PET基材(6)采用的是双面电晕基材。

7.根据权利要求5所述的镭射屏幕保护膜，其特征在于：所述的保护膜胶层(2)、抗刮层(3)、复合胶层(5)、安装胶层(7)采用的是聚氨酯类树脂、有机硅类树脂或是丙烯酸类树脂。

8.根据权利要求5所述的镭射屏幕保护膜，其特征在于：所述的镭射膜层(4)基材采用的是PET薄膜或OPP薄膜。

9.根据权利要求5所述的镭射屏幕保护膜，其特征在于：所述抗刮层保护膜(1)、主膜PET基材(6)、安装胶保护膜(8)均为PET薄膜，且PET薄膜的透光率大于92％，雾度小于1％。

10.一种制作权利要求1所述的镭射屏幕保护膜的方法，其特征在于：包括如下步骤：

①、在50um～300um的主膜PET基材(6)的一面上涂布一层4um～20um的复合胶层(5)，再用10um～40um的镭射膜层(4)的金属面与该复合胶层(5)复合；

②、然后在主膜PET基材(6)的另一面上涂布一层10um～40um的安装胶层(7)，用12um～50um的安装胶保护膜(8)的非电晕面与该安装胶层(7)复合；

③、然后再在镭射膜层(4)的另外一面上通过UV设备涂布一层2um～8um的抗刮层(3)；

④、最后在抗刮层保护膜(1)的电晕面上涂布一层5um～20um的保护膜胶层(2)，再与上述抗刮层(3)复合，即得本发明所述的镭射屏幕保护膜。