[发明专利]一种彩膜基板、制作方法及显示装置

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：

基板；

形成于所述基板上的黑矩阵；

形成于所述黑矩阵的上方的柱状隔垫物，两端的横截面面积小于所述两端之间部分的横截面面积。

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，

所述柱状隔垫物与所述黑矩阵一体成型。

3.如权利要求1或2所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：

形成于所述基板上的子像素。

4.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：

在基板上形成黑矩阵和柱状隔垫物；

其中，所述柱状隔垫物位于所述黑矩阵的上方，所述柱状隔垫物的两端的横截面面积小于所述两端之间部分的横截面面积。

5.如权利要求4所述的制作方法，其特征在于，

所述柱状隔垫物与所述黑矩阵一体成型。

6.如权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述在基板上形成黑矩阵和柱状隔垫物，具体为：

在基板上沉积黑矩阵材料层，通过构图工艺在所述基板上形成黑矩阵图形；

通过成像显影灰化工艺，形成黑矩阵和与所述黑矩阵一体的初始柱状隔垫物，所述初始柱状隔垫物位于所述黑矩阵的上方；

通过倒梯形光刻胶制作工艺，将所述初始柱状隔垫物处理成倒梯形柱状隔垫物，所述倒梯形柱状隔垫物与所述黑矩阵连接的一端的横截面面积小于悬空端的横截面面积；

通过成像显影灰化工艺，将所述倒梯形柱状隔垫物处理成所述柱状隔垫物，所述柱状隔垫物的两端的横截面面积小于所述两端之间部分的横截面面积。

7.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，

所述黑矩阵材料层为具有抗压能力的正性黑矩阵用光阻剂层。

8.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述通过成像显影灰化工艺，形成黑矩阵和与所述黑矩阵一体的初始柱状隔垫物，所述初始柱状隔垫物位于所述黑矩阵的上方，具体为：

采用具有遮光部和灰色调部的第一灰色调掩模版进行掩模、曝光、显影和灰化工艺，使所述黑矩阵图形对应初始柱状隔垫物区域的部分被全部保留以形成所述初始柱状隔垫物，使所述黑矩阵图形的其它部分被部分保留以形成所述黑矩阵。

9.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述通过成像显影灰化工艺，将所述倒梯形柱状隔垫物处理成所述柱状隔垫物，具体为：

采用具有遮光部和灰色调部的第二灰色调掩模版进行掩模、曝光、显影和灰化工艺，使所述倒梯形柱状隔垫物的悬空端与中间之间的部分的边缘被去除以形成所述柱状隔垫物。

10.如权利要求4或5所述的制作方法，其特征在于，还包括：

在所述基板上形成子像素。

11.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至3任一项所述的彩膜基板。