[发明专利]一种彩膜基板、制作方法及显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种彩膜基板、制作方法及显示装置。

背景技术

随着薄膜晶体管液晶显示器成本的降低和制造工艺的完善，薄膜晶体管液晶显示器已成为平板显示领域的主流产品。

薄膜晶体管液晶显示器包括阵列基板、彩膜基板以及填充在两者之间的液晶材料。其中，彩膜基板通常包括基板、具有颜色的子像素(如三基色子像素)、形成于子像素间隙的黑矩阵和形成于黑矩阵上方的柱状隔垫物。如图1所示，当柱状隔垫物a与子像素b之间的间距d较小时，会导致摩擦工艺中对靠近柱状隔垫物处的子像素对应的取向层摩擦不彻底，从而引起液晶转向异常，易发生漏光现象。为了避免该漏光现象的发生，只能增大间距d。为了增大间距d，现有制作工艺通常将柱状隔垫物与黑矩阵连接的一端的横截面面积缩小，由于现有的柱状隔垫物通常呈梯形，因此，缩小与黑矩阵连接的一端的横截面面积，就会使得柱状隔垫物变细，使柱状隔垫物的支撑能力降低，从而无法保证盒厚。

发明内容

本发明实施例提供了一种彩膜基板、制作方法及显示装置，用以解决现有彩膜基板的柱状隔垫物在缩小与黑矩阵连接的一端的横截面面积之后，会降低支撑能力的问题。

本发明实施例提供一种彩膜基板，包括：

基板；

形成于所述基板上的黑矩阵；

形成于所述黑矩阵的上方的柱状隔垫物，两端的横截面面积小于所述两端之间部分的横截面面积。

其中，所述柱状隔垫物与所述黑矩阵一体成型。

所述的彩膜基板，还包括：

形成于所述基板上的子像素。

本发明实施例提供一种彩膜基板的制作方法，包括：

在基板上形成黑矩阵和柱状隔垫物；

其中，所述柱状隔垫物位于所述黑矩阵的上方，所述柱状隔垫物的两端的横截面面积小于所述两端之间部分的横截面面积。

其中，所述柱状隔垫物与所述黑矩阵一体成型。

所述在基板上形成黑矩阵和柱状隔垫物，具体为：

在基板上沉积黑矩阵材料层，通过构图工艺在所述基板上形成黑矩阵图形；

通过成像显影灰化工艺，形成黑矩阵和与所述黑矩阵一体的初始柱状隔垫物，所述初始柱状隔垫物位于所述黑矩阵的上方；

通过倒梯形光刻胶制作工艺，将所述初始柱状隔垫物处理成倒梯形柱状隔垫物，所述倒梯形柱状隔垫物与所述黑矩阵连接的一端的横截面面积小于悬空端的横截面面积；

通过成像显影灰化工艺，将所述倒梯形柱状隔垫物处理成所述柱状隔垫物，所述柱状隔垫物的两端的横截面面积小于所述两端之间部分的横截面面积。

其中，所述黑矩阵材料层为具有抗压能力的正性黑矩阵用光阻剂层。

此时，所述通过成像显影灰化工艺，形成黑矩阵和与所述黑矩阵一体的初始柱状隔垫物，所述初始柱状隔垫物位于所述黑矩阵的上方，具体为：

采用具有遮光部和灰色调部的第一灰色调掩模版进行掩模、曝光、显影和灰化工艺，使所述黑矩阵图形对应初始柱状隔垫物区域的部分被全部保留以形成所述初始柱状隔垫物，使所述黑矩阵图形的其它部分被部分保留以形成所述黑矩阵。

所述通过成像显影灰化工艺，将所述倒梯形柱状隔垫物处理成所述柱状隔垫物，具体为：

采用具有遮光部和灰色调部的第二灰色调掩模版进行掩模、曝光、显影和灰化工艺，使所述倒梯形柱状隔垫物的悬空端与中间之间的部分的边缘被去除以形成所述柱状隔垫物。

所述的制作方法，还包括：

在所述基板上形成子像素。

本发明实施例提供的技术方案中，在为了增大柱状隔垫物与子像素之间的间距，而将柱状隔垫物与黑矩阵连接的一端的横截面面积设计为较小时，柱状隔垫物不易发生断裂，支撑能力较大，能保证盒厚。

附图说明

图1为现有彩膜基板的结构示意图；

图2为本发明实施例中一种彩膜基板的结构示意图；

图3为本发明实施例中另一种彩膜基板的结构示意图；

图4为本发明实施例中彩膜基板的制作方法的流程图；

图5为本发明实施例中步骤S401对应的结构示意图；

图6为本发明实施例中步骤S402对应的结构示意图；

图7为本发明实施例中步骤S403对应的结构示意图。

具体实施方式

为使本发明实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。

如图2所示，本发明实施例提供了一种彩膜基板，包括：

基板1；