[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，具有：

第一处理室以及第二处理室；

第一基板保持单元，用于在所述第一处理室保持基板；

药液供给单元，用于向被所述第一基板保持单元保持的基板供给含有蚀刻成分和增稠剂的药液；

基板搬运单元，用于在所述药液保持在所述基板上的状态下，将该基板从所述第一处理室搬运到所述第二处理室；以及，

第二基板保持单元，用于在所述第二处理室，对保持有所述药液的多张基板进行保持。

2.根据权利要求1所记载的基板处理装置，其特征在于，

还具有：

第三处理室，

第三基板保持单元，用于在所述第三处理室保持基板，以及，

冲洗液供给单元，用于向被所述第三基板保持单元保持的基板供给冲洗液；

所述基板搬运单元从所述第二处理室向所述第三处理室搬运基板。

3.根据权利要求1或2所记载的基板处理装置，其特征在于，所述药液供给单元向被所述第一基板保持单元保持的基板的主面的局部供给所述药液。

4.根据权利要求3所记载的基板处理装置，其特征在于，

还具有异物测定单元，该异物测定单元对附着于基板的主面的异物的位置进行测定，

所述药液供给单元向所述主面上的包含有异物的范围供给所述药液。

5.根据权利要求4所记载的基板处理装置，其特征在于，

还具有测定室，在该测定室，通过所述异物测定单元来对附着于基板的异物的位置进行测定，

所述基板搬运单元从所述测定室向所述第一处理室搬运基板。

6.根据权利要求3所记载的基板处理装置，其特征在于，所述药液供给单元向所述主面上的预先确定的范围供给所述药液。

7.一种基板处理方法，其特征在于，包括：

药液供给工序，向基板供给含有蚀刻成分和增稠剂的药液，并使该药液保持在所述基板；

搬运工序，在进行了所述药液供给工序之后，在所述药液保持在所述基板上的状态下搬运该基板；以及，

反应处理工序，在进行了所述搬运工序之后，使保持有所述药液的基板与所述药液发生反应。

8.根据权利要求7所记载的基板处理方法，其特征在于，

所述蚀刻成分是氢氟酸和过氧化氢的混合物或者氢氧化铵和过氧化氢的混合物，

所述增稠剂是从甲基纤维素、羧甲基纤维素、聚乙二醇、聚丙烯酸钠以及聚乙烯醇中选择的一种以上的物质。