[发明专利]光致抗蚀剂制造用组合物的制造方法

权利要求书

1.一种光致抗蚀剂制造用组合物的制造方法，其特征在于，将包含选自下述式(A1)、(A2)、(A3)、(A4)及(A5)所示的化合物中的至少一种化合物的溶剂A和肟酯类光聚合引发剂混合来制成溶剂组合物(C)，然后将溶剂组合物(C)及与所述溶剂A相溶的溶剂B混合得到光致抗蚀剂制造用组合物(D)，

上述式中，R¹～R⁴、R¹’、R²’相同或不同，分别为C_1-2的烷基，R¹和R³、或R²和R⁴任选相互键合而分别形成环；R⁵和R⁶相互键合而形成4～8元环，环可以分支而具有侧链；R⁵’和R⁶’相互键合而形成3～7元环，环可以分支而具有侧链；R⁷和R⁸相互键合而形成3～7元环，环可以分支而具有侧链。

2.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂制造用组合物的制造方法，其中，上述溶剂A和溶剂B的重量比为溶剂A∶溶剂B＝10∶90～99∶1。

3.根据权利要求1或2所述的光致抗蚀剂制造用组合物的制造方法，其中，在上述溶剂组合物(C)中，上述溶剂A相对于上述肟酯类光聚合引发剂的重量比为肟酯类光聚合引发剂∶溶剂A＝1∶0.1～1∶100。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的光致抗蚀剂制造用组合物的制造方法，其中，在上述溶剂组合物(C)中，上述肟酯类光聚合引发剂溶解4重量％以上。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的光致抗蚀剂制造用组合物的制造方法，其中，所述肟酯类光聚合引发剂为下述式(P1)所示的化合物(P1)，

上述式(P1)中，R¹¹表示C₂酰基或苯甲酰基；R¹²表示C_1-6烷基或任选具有取代基的苯基；R¹³表示下述式(P2)或下述式(P4)所示的基团，

上述式(P2)中，R¹⁴表示任选具有取代基的苯基、任选具有取代基的萘基、任选具有取代基的蒽基、任选具有取代基的噻吩基或任选具有取代基的二苯硫醚基团；R¹⁵表示单键或下述式(P3)所示的二价的基团，进一步地，在R¹⁵为单键时，R¹⁴可以为C₆H₅SC₆H₄-，

上述式(P3)中，R¹⁶表示C_1-2烷基或苯基，

₂ON-R¹⁵-    (P4)

上述式(P4)中，R¹⁵表示单键或上述式(P3)所示的基团。

6.根据权利要求5所述的光致抗蚀剂制造用组合物的制造方法，其中，上述肟酯类光聚合引发剂为下述式(1)所示的化合物(1)、下述式(2)所示的化合物(2)或下述式(3)所示的化合物(3)，