[发明专利]光致抗蚀剂制造用组合物的制造方法无效

专利信息
申请号: 201210059273.4 申请日: 2012-03-08
公开(公告)号: CN102681340A 公开(公告)日: 2012-09-19
发明(设计)人: 铃木阳二;赤井泰之 申请(专利权)人: 株式会社大赛璐
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;C08F2/48
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张永新
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光致抗蚀剂 制造 组合 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种对光聚合引发剂溶解性优异的光致抗蚀剂制造用组合物的制造方法。

背景技术

为了实现液晶显示器等显示装置的彩色化,通常需要在两张基板之间设置由红(R)、绿(G)、蓝(B)、黄(Y)等像素区域构成的滤色器。但是,滤色器的各像素区域之间被无间隙地填埋时,则在其边界会引起对比度降低等。为了防止该问题,通常,形成利用黑色的隔片将各颜色的像素区域分割开的黑色矩阵。

为了形成黑色矩阵及滤色器,通常可使用光致抗蚀剂。对于黑色矩阵而言,有使用金属的遮光材料的黑色矩阵、及使用非金属的遮光材料的黑色矩阵。近年来,出于环境方面的考虑,作为非金属的黑色矩阵,树脂黑色矩阵正在增加。树脂黑色矩阵浆料由遮光材料、粘合剂树脂、多官能单体、光聚合引发剂、溶剂等构成。

黑色矩阵经过以下(1)~(6)的工序来制造。

(1)配制黑色矩阵浆料。(2)将上述黑色矩阵浆料涂布在基板上后进行薄层化。(3)在100℃左右的温度下蒸发溶剂进行干燥。(4)照射100mJ/cm2左右强度的UV来进行光固化。(5)喷雾碳酸钠水溶液,清洗不需要的树脂成分。(6)在200℃左右的温度下加热以进行热固化。

在黑色矩阵的光固化中,由于配合有浆料组合物中所含的遮光剂,因此,到达深处的光变弱。因此,需要在浆料组合物中大量含有灵敏度高的光聚合引发剂。作为灵敏度高的光聚合引发剂,可以举出具有咔唑骨架的肟酯类光聚合引发剂(专利文献1)。但这些光聚合引发剂的溶解性差,难以大量溶解在溶剂中。

在专利文献2中公开了如下内容:从对光聚合引发剂的溶解性方面考虑,可使用环己酮及包含环己酮的混合溶剂作为黑色矩阵的浆料用溶剂(专利文献2)。但是,环己酮有生态毒性的担心,并且作为VOC限制对象化合物,存在需要在操作中设定有机溶剂操作负责人等的限制,因此,正在寻求其代替溶剂。

在滤色器及黑色矩阵用途中,从涂布性及颜料分散性方面考虑,其它的通常使用的溶剂包括:丙二醇单甲醚乙酸酯、3-甲氧基丁醇乙酸酯、1,6-己二醇二乙酸酯、1,3-丁二醇二乙酸酯、二丙二醇单甲醚乙酸酯、二丙二醇二甲醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、乙酸环己酯、丙二醇二乙酸酯、二丙二醇二乙酸酯、二乙二醇单乙醚乙酸酯、二乙二醇单丁醚乙酸酯等(专利文献3、专利文献4)。但是,这些溶剂对于具有咔唑骨架的、灵敏度高的肟酯类光聚合引发剂的溶解性不充分。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利第4448381号公报

专利文献2:日本特开2009-173560号公报

专利文献3:日本特开2009-271502号公报

专利文献4:日本特开2010-249869号公报

发明内容

发明要解决的问题

因此,本发明的目的在于提供一种光致抗蚀剂制造用组合物的制造方法,在制造光致抗蚀剂中,所述组合物高浓度地溶解灵敏度高的肟酯类光聚合引发剂,且不损害电子材料用途的浆料组合物的特性。

解决问题的方法

本发明人等为了解决所述课题进行了潜心研究,结果发现,通过使用特定的溶剂A溶解肟酯类光聚合引发剂,随后使用通常用于电子材料用途的、且公知其涂布性、颜料分散性良好的溶剂进行稀释,由此,可以实现肟酯类光聚合引发剂的较高的溶解性。本发明是基于以上见解而完成的。

即,本发明提供一种光致抗蚀剂制造用组合物的制造方法,其特征在于,将包含选自下述式(A1)、(A2)、(A3)、(A4)及(A5)所示的化合物中的至少一种化合物的溶剂A和肟酯类光聚合引发剂混合来制成溶剂组合物(C),然后将溶剂组合物(C)及与所述溶剂A相溶的溶剂B混合得到光致抗蚀剂制造用组合物(D),

[化学式1]

(上述式中,R1~R4、R1’、R2’相同或不同,分别为C1-2的烷基,R1和R3、或R2和R4任选相互键合而分别形成环;R5和R6相互键合而形成4~8元环,环可以分支而具有侧链;R5’和R6’相互键合而形成3~7元环,环可以分支而具有侧链;R7和R8相互键合而形成3~7元环,环可以分支而具有侧链)

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