[发明专利]激光器阵列、激光器装置及光学传输装置和信息处理装置有效

专利信息
申请号: 201210061277.6 申请日: 2012-03-09
公开(公告)号: CN102891434B 公开(公告)日: 2017-03-01
发明(设计)人: 粂井正也 申请(专利权)人: 富士施乐株式会社
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;H01S5/02
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 顾红霞,龙涛峰
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 激光器 阵列 装置 光学 传输 信息处理
【说明书】:

技术领域

本发明涉及垂直腔面发射激光器阵列、垂直腔面发射激光器装置、光学传输装置及信息处理装置。

背景技术

具有元件阵列的垂直腔面发射激光器阵列能够利用多条激光束对图像进行光学渲染,因而应用于例如激光打印机等光学写入装置中。这样的光学写入装置使用依赖于偏振方向的例如透镜、反射镜、分光器和玻璃盖等光学元件。因此,需要对激光束执行偏振控制。

与将光偏振成TE模式并且使光振荡的常见边发射半导体激光器对比,垂直腔面发射激光器因其腔体结构对称而在稳定偏振方面有难度。另外,在垂直腔面发射激光器阵列具有多元件阵列的情况下,对于所有的元件都使光沿着同一方向偏振更加困难。作为现有技术的在垂直腔面发射激光器中控制偏振的方法,将变形施加部分设置在腔体的相反两侧以便向该腔体的活性层施加各向异性变形(例如,参见未经审查的日本专利申请No.2003-332685和No.2011-3748)。

发明内容

本发明的目的在于提供一种垂直腔面发射激光器阵列,该激光器阵列的各元件受到偏振控制。

根据本发明的第一方面,提供一种垂直腔面发射激光器阵列,所述激光器阵列包括:基板,其上具有元件形成区域;多个柱状结构,其形成在所述基板上的所述元件形成区域中;以及至少一根金属配线,其形成为与所述多个柱状结构相邻。所述多个柱状结构中的每一个包括第一导电类型的下部半导体反射器、第二导电类型的上部半导体反射器、以及形成在所述下部半导体反射器和所述上部半导体反射器之间的活性区域。所述多个柱状结构中的每一个沿着与所述基板垂直的方向发射光。所述至少一根金属配线具有变形施加部分,所述变形施加部分相对于所述多个柱状结构沿着同一方向延伸。

根据本发明的第二方面,在根据第一方面所述的垂直腔面发射激光器阵列中,所述多个柱状结构可以线性地排列,并且所述变形施加部分可以与所述多个柱状结构的排列方向平行地延伸。

根据本发明的第三方面,在根据第一或第二方面所述的垂直腔面发射激光器阵列中,所述至少一根金属配线的构成材料可以与所述多个柱状结构的与所述上部半导体反射器电连接的电极配线的构成材料相同,并且所述至少一根金属配线和所述电极配线可以在同一工序中形成。

根据本发明的第四方面,在根据第一或第二方面所述的垂直腔面发射激光器阵列中,所述至少一根金属配线还可以用作所述多个柱状结构的电极配线。

根据本发明的第五方面,根据第三方面所述的垂直腔面发射激光器阵列还可以包括与所述多个柱状结构对应的多个电极片。此外,所述至少一根金属配线可以包括将所述多个柱状结构和所述多个电极片彼此连接的多根金属配线。在这种情况下,所述多根金属配线中的每一根可以具有所述变形施加部分。

根据本发明的第六方面,在根据第五方面所述的垂直腔面发射激光器阵列中,所述多个电极片可以设置在所述垂直腔面发射激光器阵列的第一端和与所述第一端相反的第二端。所述多个柱状结构可以包括位于所述多个柱状结构的中部的第一柱状结构和第二柱状结构,所述第一柱状结构设置为靠近所述第一端,而所述第二柱状结构设置为靠近所述第二端。所述多根金属配线可以包括与所述第一柱状结构连接并朝向所述第二端延伸的第一金属配线以及与所述第二柱状结构连接并朝向所述第一端延伸的第二金属配线。所述第一金属配线和所述第二金属配线可以各自具有所述变形施加部分。

根据本发明的第七方面,在根据第五方面所述的垂直腔面发射激光器阵列中,所述多个电极片可以设置在所述垂直腔面发射激光器阵列的第一端和与所述第一端相反的第二端。所述多个柱状结构可以包括位于所述多个柱状结构的中部的第一柱状结构和第二柱状结构,所述第一柱状结构设置为靠近所述第一端,而所述第二柱状结构设置为靠近所述第二端。所述多根金属配线可以包括与所述第一柱状结构连接并朝向所述第一端延伸的第一金属配线以及与所述第二柱状结构连接并朝向所述第二端延伸的第二金属配线。所述变形施加部分可以包括设置在所述第一金属配线中的多个变形施加部分以及设置在所述第二金属配线中的多个变形施加部分,所述第一金属配线中的所述多个变形施加部分至少与所述第一柱状结构和与所述第一柱状结构相邻的柱状结构平行地延伸,而所述第二金属配线中的所述多个变形施加部分至少与所述第二柱状结构和与所述第二柱状结构相邻的柱状结构平行地延伸。

根据本发明的第八方面,在根据第一或第二方面所述的垂直腔面发射激光器阵列中,所述变形施加部分可以沿着所述基板的平面方向(110)或(1-10)延伸。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士施乐株式会社,未经富士施乐株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210061277.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top