[发明专利]化学气相沉积机台在审

专利信息
申请号: 201210061942.1 申请日: 2012-03-09
公开(公告)号: CN102560428A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 胡可绿;解毅;何雅彬;朱义党;郑修锋;王华钧;忻圣波 申请(专利权)人: 上海宏力半导体制造有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/52;H01L21/67
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 郑玮
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 化学 沉积 机台
【权利要求书】:

1.一种化学气相沉积机台,包括标准机械界面、前端部分、机械手臂、缓存处、缓冲区和沉积腔体,其中所述标准机械界面是晶片进入机台的开始位置,所述前端部分一端连接标准机械界面另一端连接缓存处,所述前端部分设有风机过滤机组,所述风机过滤机组包括风扇,所述风扇过滤前端部分的空气,所述缓冲区连接所述缓存处,所述沉积腔体与缓冲区相连接,所述机械手臂用于传输标准机械界面、缓存处和沉积腔体之间的晶片,其特征在于:所述风机过滤机组还包括一个用于检测风扇工作状态的检测装置。

2.根据权利要求1所述的化学气相沉积机台,其特征在于:所述检测装置包括压力传感器,所述压力传感器用于检测前端部分内的正压力。

3.根据权利要求2所述的化学气相沉积机台,其特征在于:所述压力传感器连接一蜂鸣器。

4.根据权利要求2所述的化学气相沉积机台,其特征在于:所述压力传感器为正压力传感器。

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