[发明专利]一种静电保护器件无效
申请号: | 201210063844.1 | 申请日: | 2012-03-12 |
公开(公告)号: | CN103311235A | 公开(公告)日: | 2013-09-18 |
发明(设计)人: | 苏庆;徐向明;王邦磷;邓樟鹏 | 申请(专利权)人: | 上海华虹NEC电子有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 丁纪铁 |
地址: | 201206 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 静电 保护 器件 | ||
1.一种静电保护器件,包括:2N个并列形成于一P阱上NMOS结构,所述并列NMOS结构的最外侧为源区,所述最外侧源区的外侧形成有P型有源区,相邻的NMOS结构之间共源区/共漏区,N≥1;
每个NMOS结构包括:一栅极和两隔离侧墙,形成于所述P阱上;
一源区,位于所述栅极一侧NLDD注入区中,所述NLDD注入区位于所述P阱中;
一漏区,位于所述栅极另一侧所述NLDD注入区中,所述NLDD注入区覆盖部分所述漏区;
本器件栅极、源区和P型有源区均接地,漏区均连接到输入输出焊垫端;
其特征是:共漏区上方形成有NLDD注入阻挡区,以阻挡在此区域下方形成的NLDD注入区。
2.如权利要求1所述的静电保护器件,其特征是:所述NLDD注入阻挡区位于漏区接触孔下方,距离沟道大于1um。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华虹NEC电子有限公司,未经上海华虹NEC电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210063844.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的