[发明专利]半导体元件及其制造方法及半导体封装结构有效

专利信息
申请号: 201210064732.8 申请日: 2012-03-13
公开(公告)号: CN102543926A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 郑斌宏;洪志斌 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: H01L23/485 分类号: H01L23/485;H01L23/31;H01L21/60;H01L21/56
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陆勍
地址: 中国台湾高雄*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 半导体 元件 及其 制造 方法 封装 结构
【说明书】:

技术领域

发明关于一种半导体元件及其制造方法,以及一种具有该半导体元件的半导体封装结构,详言之,关于一种具有二层聚合物层的半导体元件及其制造方法,以及一种具有该半导体元件的半导体封装结构。

背景技术

已知半导体元件包含一硅基材、一布线层、数个铜柱(Copper Pillar)及一聚合物层。该硅基材具有一主动面及一背面。该布线层位于该硅基材的主动面,且具有数个焊垫。这些铜柱位于焊垫上。由于这些铜柱具有高的高宽比(High Aspect Ratio),因此会有容易断裂及倒塌的风险。此外,该聚合物层位于该硅基材的背面,由于该聚合物层与该硅基材的热膨胀系数(CTE)并不匹配,因此容易形成翘曲。

发明内容

本发明提供一半导体元件,其包括一半导体基板、一布线层、至少一导通柱(Conductive Via)、一钝化层(Passivation Layer)、至少一金属柱(Metal Pillar)、一第一聚合物层(Polymer Layer)及一第二聚合物层。该半导体基板具有一第一表面及一第二表面。该布线层位于该半导体基板的第一表面。该导通柱贯穿该半导体基板,且电性连接至该布线层。该钝化层覆盖该布线层且显露部分该布线层。该金属柱邻接该半导体基板的第一表面,且电性连接至该显露的部分该布线层。该第一聚合物层覆盖该钝化层,且该至少一金属柱凸出于该第一聚合物层之外。该第二聚合物层邻接该半导体基板的第二表面。

在本发明中,该第一聚合物层包覆这些该金属柱的下半部,因此可以支撑这些该金属柱,降低这些该金属柱断裂及倒塌的风险。此外,该第一聚合物层及该第二聚合物层分别位于该半导体基板的二侧,其热膨胀时会互相抵销,因此可避免该半导体基板发生翘曲。

本发明另提供一种半导体元件的制造方法,其包括以下步骤:(a)提供一晶圆,该晶圆包括一半导体基板、一布线层、至少一导通柱(Conductive Via)及一钝化层(Passivation Layer),该半导体基板具有一第一表面及一第二表面,该布线层位于该半导体基板的第一表面,该至少一导通柱位于该半导体基板内,且电性连接至该布线层,该钝化层覆盖该布线层且显露部分该布线层;(b)形成至少一金属柱,其中该至少一金属柱邻接该半导体基板的第一表面,且电性连接至该显露的部分该布线层;(c)形成一第一聚合物层(Polymer Layer)以覆盖该钝化层,其中该至少一金属柱凸出于该第一聚合物层之外;及(d)形成一第二聚合物层于该半导体基板的第二表面。

本发明另提供一种半导体封装结构,其包括一下基板、一半导体元件、一上半导体元件及一封胶材料。该半导体元件与上述的该半导体元件相同,且位于该下基板上。该半导体元件的金属柱电性连接至该下基板。该上半导体元件位于该半导体元件上,且电性连接至该至少一导通柱。该封胶材料包覆该下基板、该半导体元件及该上半导体元件。

附图说明

图1显示本发明半导体元件的一实施例的示意图;

图2至图15显示本发明半导体元件的制造方法的一实施例的示意图;

图16显示本发明半导体封装结构的一实施例的示意图;

图17至图19显示本发明半导体封装结构的制造方法的一实施例的示意图;

图20显示本发明半导体元件的另一实施例的示意图;

图21至图25显示本发明半导体元件的制造方法的另一实施例的示意图;

图26显示本发明半导体元件的另一实施例的示意图;及

图27显示本发明半导体封装结构元件的另一实施例的示意图。

具体实施方式

参考图1,显示本发明半导体元件的一实施例的示意图。该半导体元件1包括一半导体基板11、一布线层12、至少一导通柱(Conductive Via)13、至少一阻绝层(Liner)131、一钝化层(Passivation Layer)14、至少一金属柱(Metal Pillar)15、一第一聚合物层(Polymer Layer)16、一第二聚合物层17及一保护盖(Protection Cap)2。

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