[发明专利]一种发光器件有效

专利信息
申请号: 201210067680.X 申请日: 2012-03-15
公开(公告)号: CN102593298A 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: 潘小和;陈杰 申请(专利权)人: 矽光光电科技(上海)有限公司
主分类号: H01L33/16 分类号: H01L33/16;H01L33/20
代理公司: 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 代理人: 周荣芳
地址: 201203 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 发光 器件
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种为固态光源的发光器件。

背景技术

固态光源,例如发光二极管(LED)和激光二极管,与白炽灯或荧光灯相比具有非常大的优势。固态光源通常比传统的白炽灯或荧光灯的效率更高且产热更少。当发光二级管(LED)或激光二极管被置于红、绿、蓝元件列时,它们可作白光源或多彩显示。尽管固态发光具有某些优势,但传统的用于固态发光的半导体结构和设备价格相对昂贵。固态发光器件的高成本部分归因于其相对复杂和耗时的生产工艺。

根据图1所示,一种先有技术的LED结构100包含一个基板105,例如蓝宝石基板。缓冲层110位于基板105上。缓冲层110主要作为一个润湿层,以促进蓝宝石基板光滑且均匀覆盖。缓冲层110通常是经金属有机化学蒸汽沉淀(MOCVD)法形成的一个薄的非结晶层。有n型掺杂的III-V族化合物层120位于缓冲层110上。所述有n型掺杂的III-V族化合物层120通常是由氮化镓(GaN)组成。氮化铟镓(InGaN)的量子阱层130位于有n型掺杂的III-V族化合物层120上。一个活性III-V族化合物层140形成于氮化铟镓(InGaN)的量子阱层130上。有p型掺杂的III-V族化合物层150形成于活性III-V族化合物层140上。p电极160(正极)形成于有p型杂质的III-V族化合物层150上。n电极170(负极)形成于有n型杂质的III-V族化合物层120上。

GaN晶体在不同的晶体方向上具有不同的导电性。(0001)晶面垂直于c轴,与其他平面相比具有最高的电极性。(1-100)晶面垂直于m轴,是非极性的。其他GaN晶面,例如(1-101),都是半极性的,其电极性小于(0001)晶面。

GaN晶体的不同晶面,也具有不同的光学性质。非极性(1-100)晶面的内部量子效率(IQE)最高;而半极性晶面,例如(0001)平面的量子效率稍低。极性的(0001)晶面的量子效率最低。在发光器件中,需要从非极性或半极性晶面产生发光,从而获得较高的光强度。

早期的GaN LED在蓝宝石、碳化硅或尖晶石基板(图1中的105)上成形。最近,试图在LiAlO2基板上生长具有非极性发光面的GaN发光器件。尽管这些LED结构的光发射是光谱稳定且极化的,但由于在LiAlO2基板上生长的过程中,GaN晶体内会产生很多瑕疵,其发光强度较低。

发明内容

本发明公开了一种利用非极性和半极性GaN晶体表面作为量子阱基底的发光器件,其发光效率和光发射强度较传统的GaN LED有所提高。该发光器件的发射光也是高度极化,对很多显示器来说是非常有用的。

本发明公开的器件还具有某些优点,包含能为GaN单晶体提供非常低的缺陷密度,来提高器件的可靠性和使用寿命;可特制成不同的形状尺寸,以适合不同的应用;并且它们能装配在硅基底上,与多种微电子设备兼容。

一方面,本发明涉及一种发光器件,其包含一个具有(111)晶面的硅基底和一个位于(111)晶面上的GaN晶体结构,其中所述GaN晶体结构包含一个非极性平面,一个平行于该非极性平面的第一表面,和位于第一表面上的发光层。该发光层具有至少一个含GaN的量子阱。

另一方面,本发明涉及一种发光器件,其包含一个以(100)晶面作为硅上表面的硅基底,在上表面位置开设有一个凹槽,并将凹槽的一部分限定为硅基底的(111)晶面。GaN晶体结构位于(111)晶面上,GaN晶体结构具有一个非极性平面,一个第一表面平行于该非极性平面。位于GaN晶体结构的第一表面上的发光层,该发光层具有至少一个含GaN的量子阱。

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