[发明专利]一种氙气灯真空热处理工艺

权利要求书

1.一种氙气灯真空热处理工艺，其特征在于，它包括如下步骤：

a、将电弧管表面用粘无水乙醇的无尘布清洁处理，晾干；

b、将晾干的电弧管放入手套箱，在手套箱内将电弧管放入石英容器中，再将石英容器放在脱羟炉的底盘中心；

c、启动脱羟炉，开启压缩空气；

d、水洗，打开冷却水阀门和水泵，开启水循环；

e、依次开启机械泵、分子泵对脱羟炉进行抽真空处理，真空度达到2×10^-3Pa后开启加热程序，加热温度为1000-1200℃，时间为4-6小时；

f、冷却，取出脱羟的电弧管。

2.根据权利要求1所述的一种氙气灯真空热处理工艺，其特征在于，在工艺步骤b将石英容器放入脱羟炉底盘中心过程，石英容器应当保持垂直于底盘表面。

3.根据权利要求1所述的一种氙气灯真空热处理工艺，其特征在于，在所述工艺步骤e中，先开启机械泵，打开粗抽阀，对分子泵和脱羟炉抽真空，待真空度到5Pa时，开启分子泵；分子泵到达额定转速后，关闭脱羟炉粗抽阀，进行抽高真空处理，直至真空度达到2×10^-3Pa。

4.根据权利要求1所述的一种氙气灯真空热处理工艺，其特征在于，在所述工艺步骤e的加热过程中，优选先将温度加热到1100℃，然后再保温5小时。

5.根据权利要求1所述的一种氙气灯真空热处理工艺，其特征在于，在所述工艺步骤f中，先降温至280度，然后停止抽真空，并向炉内充气，使炉内气压与手套箱内压力相同。